HMDS烘箱,中國臺灣hmds烤箱的主要作用:
HMDS烘箱,中國臺灣hmds烤箱通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時間、處理時保持時間等參數(shù)的控制可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。
規(guī)格說明:
內(nèi)尺寸:41×41×41 Cm W×D×H
外尺寸:1192×715×982 m/m W×D×H
電力:AC220V 1PH 50HZ 6KVA
材質(zhì):內(nèi)部 SUS316#電解處理,外部 SS41#靜電塗裝粉體烤漆
HMDS預(yù)處理的必要性:
在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
性能:
溫度:Max.200℃
真空度於:1Torr 以下,N2 經(jīng)加熱後才進(jìn)入箱內(nèi)
HMDS 依程序控制自動導(dǎo)入
溫度控制精度:±0.3% F.S.
溫度解析度:0.1℃
壓力控制精度: ±0.3% F.S
壓力解析度:1TORR