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等離子刻蝕ICP

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參考價

面議

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司
品牌其他品牌
型號
所在地深圳市
廠商性質(zhì)代理商
更新時間2018/9/25 14:40:18
訪問次數(shù)694

產(chǎn)品標(biāo)簽:

蝕刻機(jī)等離子蝕刻機(jī)

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公司介紹主營產(chǎn)品

First-Nano System GmbH

2003年創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學(xué)（Dresden University of Technology）
2008年香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
2015年上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國代表處，負(fù)責(zé)中國區(qū)業(yè)務(wù)
2018年深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司，更好的為中國南方區(qū)市場

產(chǎn)品范圍：

薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液

展開顯示更多內(nèi)容

光學(xué)透鏡和儀器，實(shí)驗(yàn)室器具，專用儀器儀表，電化學(xué)設(shè)備和部件

產(chǎn)品簡介在線詢價

Minilock-Phantom III具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

等離子刻蝕ICP 產(chǎn)品信息

Minilock-Phantom III具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

可適用于單個基片或帶承片盤的基片(3”- 300mm尺寸)，為實(shí)驗(yàn)室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供*的刻蝕能力。它也具有多尺寸批處理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。

系統(tǒng)有多達(dá)七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應(yīng)室還可以用于去除光刻膠和有機(jī)材料?？蛇x配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器，及在基片背面保持一個氦冷卻層，從而達(dá)到控制基片溫度的作用。
該設(shè)備可選配一個電感耦合等離子(ICP)源，其使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。
基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防止反應(yīng)室內(nèi)可能發(fā)生的腐蝕。