NANO-MASTER提供兆聲硅片清洗機(jī)，用于*的無(wú)損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無(wú)圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過(guò)分布能量的zui大化達(dá)到理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。

通過(guò)聯(lián)合使用化學(xué)試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術(shù)，系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進(jìn)一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數(shù)量降到了zui低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)勢(shì)，*的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會(huì)有更大數(shù)量的顆粒回附，并且因此需要更多的去除這些顆粒。

SWC是一款帶有小占地面積的理想設(shè)備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設(shè)備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。

硅片清洗機(jī)的特點(diǎn)：

• 支持12”直徑的圓片或9”x9”方片
• 獨(dú)立系統(tǒng)
• 無(wú)損兆聲,試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干
• 微處理機(jī)自動(dòng)控制
• 化學(xué)試劑滴膠單元
• 溶劑與酸分離排廢
• 熱氮
• 30”D x 26”W 的占地面積

兆聲無(wú)損選配項(xiàng)：

• 掩模板或晶圓片夾具
• 臭氧清洗
• PVA軟毛刷清洗
• 高壓DI清洗
• 氮?dú)怆x子發(fā)生器