工作條件：工作環(huán)境溫度5-35℃；濕度≤70%；電源220V/50/60Hz。
主要用途：美國Novascan加熱型紫外臭氧清洗機(jī)廣泛用于納米技術(shù)、化學(xué)、生物、光學(xué)、電子、半導(dǎo)體及世界各地實(shí)驗(yàn)室。主要應(yīng)用領(lǐng)域：預(yù)處理表面圖案化工具；清潔硅和氮化硅探針；晶圓清洗；表面氧化及制備；提高表面親水性；表面清洗；制備薄膜沉積；紫外光固化；表面圖案化；清洗光學(xué)鏡頭；粘接硅橡膠；表面消毒；清潔MEMS器件；可處理材料表面：氮化硅、金屬、玻璃、云母、石英、陶瓷、聚合物。
系統(tǒng)組成:
1）紫外臭氧清洗機(jī) 主機(jī) 1臺(tái) 2) 可變工作臺(tái)(內(nèi)置) 1個(gè)
3) 微處理器(內(nèi)置) 1個(gè) 4) Thermal UV,溫度高達(dá)200℃ 1套
技術(shù)參數(shù)：
美國Novascan加熱型紫外臭氧清洗機(jī)是科研級(jí)紫外臭氧清洗機(jī)，有效清洗尺寸大于12.5x12.5cm的樣品；
樣品臺(tái)單元：
1.樣品臺(tái)尺寸大于12.5x12.5cm； 大處理樣品高度大于10cm；
2.※樣品高度可調(diào)，可以合理定位樣品高度和位置，位置可鎖定。
3.※樣品臺(tái)可加熱控溫，控溫范圍：室溫-200℃；
4.清洗腔打開方式：上開式；
5.360度樣品放置：打開清洗腔上開式，允許360度自由放置樣品；
紫外燈單元
UV格柵燈：低壓汞格柵燈，燈管壽命大約為5000小時(shí)；
UV反射罩：UV反射罩有效范圍大于12.5x12.5cm；；
紫外燈波長(zhǎng)：185nm和254nm。
典型強(qiáng)度：28-32Mw/cm2 @253.7nm
控制單元
可編程PID數(shù)字控制器，可準(zhǔn)確設(shè)定和控制曝光時(shí)間、處理時(shí)間、樣品高度、樣品加熱等各項(xiàng)參數(shù)；
系統(tǒng)運(yùn)行過程可執(zhí)行暫停、終止或重新啟動(dòng)等指令；
倒計(jì)時(shí)方式數(shù)字顯示；
內(nèi)置存儲(chǔ)器，記憶可調(diào)取上一次處理的參數(shù)設(shè)置。
安全裝置
安全聯(lián)鎖機(jī)制，清洗腔打開系統(tǒng)自動(dòng)關(guān)掉UV燈；
過溫保護(hù)：用戶可設(shè)置允許的極限溫度，實(shí)際溫度達(dá)到用戶設(shè)置溫度后，系統(tǒng)自動(dòng)關(guān)機(jī)。
※雙標(biāo)準(zhǔn)氣路：符合標(biāo)準(zhǔn)的進(jìn)出氣接口，可根據(jù)用戶需要訂制，可接入氧氣，增加臭氧產(chǎn)量。
可選配臭氧清除機(jī)，可在直接在實(shí)驗(yàn)室桌面上使用紫外臭氧清洗機(jī)，不需要通風(fēng)櫥，操作安全方便。樣品處理過后不需等待，可以直接取出，節(jié)省時(shí)間。
可選配雙UV燈系統(tǒng)，可以同時(shí)對(duì)樣品頂部和底部進(jìn)行處理，操作更方便，效果更好，也更節(jié)省時(shí)間。
