光氧廢氣凈化設(shè)備不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會導(dǎo)致二次污染, 適用場所：① 污水處理廠預(yù)處理、生化處理、污泥處理過程惡臭氣體的凈化和治理。② 垃圾處理過程中的堆放、分揀、堆肥、填埋、焚燒以及垃圾滲濾液污水處理站惡臭氣體的凈化和治理,③ 涂料與噴漆、煉焦、制藥、橡膠塑料、印染皮革、有機(jī)染料及合成材料廠和發(fā)酵制藥、石油化工、制鞋廠、印刷廠、造紙廠、畜牧養(yǎng)殖、飼料加工、糞便處理等惡臭氣體凈化和治理。

光氧廢氣凈化設(shè)備

  電催化氧化工藝集低溫等離子體、微波放電、極板放電與一體，在實(shí)際使用中實(shí)現(xiàn)廢氣的有效處理是極為復(fù)雜的過程，整個(gè)過程在不到1秒的時(shí)間內(nèi)完成。從理論到模型都能探究到相關(guān)的機(jī)理，通過三種方式的集中放電，廢氣分子從低能的E,在千分之一秒的時(shí)間內(nèi)躍遷到足以使其電離的Em級，廢氣分子鍵充分?jǐn)嗔眩谘┍朗降淖矒糁袛嗔押蟮牧Ｗ佑捎谫|(zhì)量更小，被進(jìn)一步躍遷，與反應(yīng)堆內(nèi)的氧離子氫氧根離子發(fā)生反應(yīng)，生成無害無味的CO2、H2O以及其它高價(jià)化合物。同時(shí)由于反應(yīng)堆內(nèi)臭氧以及紫外線的作用，*去除不同范疇的廢氣化合物，實(shí)地較為廣譜的去除空間。

 低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為：在外加電場的作用下，介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量攜能電子轟擊污染物分子，使其電離、解離和激發(fā)，然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng)，使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì)，或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無毒無害或低毒低害的物質(zhì)，從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在10ev，適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。作為環(huán)境污染處理領(lǐng)域中的一項(xiàng)具有*潛在優(yōu)勢的*，等離子體受到了國內(nèi)外相關(guān)學(xué)科界的高度關(guān)注。