純凈水設(shè)備，簡(jiǎn)單來說就是生產(chǎn)純凈水的設(shè)備。而純凈水又被我們廣泛用于：生活飲用、化工、醫(yī)療、養(yǎng)殖、種植、食品、飲料等。下面將為您簡(jiǎn)單介紹一下設(shè)備組成的部件及生產(chǎn)純凈水的流程，希望能對(duì)大家了解這個(gè)行業(yè)提供一定的幫助。
技術(shù)特點(diǎn)
1、反滲透是在室溫條件下，采用無相變的物理方法將含鹽水進(jìn)行脫鹽、除鹽。超薄復(fù)合膜元件的脫鹽率可達(dá)到99.5%以上，并可同時(shí)去除水中的膠體、有機(jī)物、細(xì)菌、病毒等；
2、采用進(jìn)口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長(zhǎng)，運(yùn)行成本低廉；
3、采用全自動(dòng)預(yù)處理系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)無人化操作；
4、采用進(jìn)口格蘭富增壓泵，高效率低噪音，穩(wěn)定可靠；
5、在線水質(zhì)監(jiān)測(cè)控制，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水質(zhì)變化，保障水質(zhì)安全；
6、全自動(dòng)電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便；
7、切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個(gè)性化設(shè)計(jì)，滿足需求；
8、設(shè)備占地面積小，需要的空間也小；
9、反滲透裝置自動(dòng)化程度高，運(yùn)行維護(hù)和設(shè)備維護(hù)工作量很少；
10、水的處理僅依靠水的壓力作為推動(dòng)力，其能耗在許多處理工藝中；
11、不用大量的化學(xué)藥劑和酸、堿再生處理，無化學(xué)廢液排放，無環(huán)境污染；
12、反滲透可以連續(xù)運(yùn)行制水，系統(tǒng)簡(jiǎn)單，操作方便，產(chǎn)品水質(zhì)穩(wěn)定。
工藝流程
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級(jí)反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→二級(jí)反滲透→純水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點(diǎn)
處理方法
一、沉淀法：以大容積、低流速的自然沉淀方法對(duì)水預(yù)進(jìn)行處理，如沉淀池。
二、混凝法：利用鐵、鋁、高分子等混凝劑，與水中的雜質(zhì)通過絮凝和架橋作用生成大顆粒沉淀物，再通過其它設(shè)備，予以去除。
三、過濾法：將被處理的水，流經(jīng)裝有特殊過濾材料的裝置，截留水中雜質(zhì)，予以去除。
四、軟化法：采用化學(xué)藥劑或陽離子交換樹脂方法，使水中的鈣、鎂、鐵離子去除。
五、消毒法：加入藥劑或使用紫外線、臭氧等方法，消除水中的微生物、細(xì)菌等。
工藝系統(tǒng)
預(yù)處理系統(tǒng)
作為純凈水生產(chǎn)的依托是非常重要的。所以要生產(chǎn)純凈水一定是要選擇原水水質(zhì)比較好的地方。如山泉、深井等。在這里牽扯到一個(gè)非常重要的指數(shù)就是“電導(dǎo)率”，一般而言電導(dǎo)率越低，水越純凈。水處理工藝都是采用的反滲透系統(tǒng)，經(jīng)過處理后的水一般能達(dá)到90%——99%的脫鹽率；下面我介紹一下這個(gè)系統(tǒng)的組成部件。
1、原水泵
原水泵是為原水預(yù)處理系統(tǒng)提供原水壓力的作用。如果原水有壓力就*可以不用這個(gè)設(shè)備。一般要求原水壓力>=0.3MPa
2、原水箱
原水箱的作用更簡(jiǎn)單，是儲(chǔ)存原水用的。這是怕原水萬一供不上作一個(gè)中轉(zhuǎn)（通常添加浮球開關(guān)是整個(gè)系統(tǒng)自動(dòng)化程度更高）。
3、石英砂過濾器
采用石英砂濾料以除去原水中較大顆粒的懸浮物、泥沙、雜質(zhì)等，降低水的混濁度。而且還可以使水中的有機(jī)物質(zhì)、細(xì)菌、病毒等隨著濁度的降低而被大量去除，并為濾后消毒創(chuàng)造了良好條件。
4、活性炭過濾器
利用活性碳的吸附能力有效地吸附原水中的有機(jī)物、游離性余氯、膠體、微粒、微生物、某些金屬離子及脫色等。
5、軟化系統(tǒng)（加藥系統(tǒng)）
利用離子樹脂的交換性能，除去原水中的鈣鎂離子，以達(dá)到防止后繼設(shè)備結(jié)生水垢的影響，但是操作起來費(fèi)工，費(fèi)料。改為加藥系統(tǒng)直接向里添加阻垢劑。
主要解決以下問題：
1、防止有機(jī)物污染；
2、防止膠體物及懸浮固體微粒堵塞；
3、防止氧化性物質(zhì)對(duì)膜的氧化破壞；這樣可保證反滲透裝置穩(wěn)定運(yùn)行以及正常的使用壽命。
4、防止反滲透膜面結(jié)垢CaCO3、CaSO4、SrSO4、CaF2、SiO2、鐵、鋁氧化物等在膜面沉積
