一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
EDI(Electro-de-ionization,continuouselectro-de-ionzation)又被稱(chēng)為CDI和連續(xù)電除鹽。該技術(shù)是二十世紀(jì)八十年代以來(lái)逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過(guò)十幾年的發(fā)展EDI在歐美等國(guó)己普遍使用，且占據(jù)了相當(dāng)部分的超純水市場(chǎng)。在國(guó)內(nèi)此項(xiàng)技術(shù)的應(yīng)用在起步階段,有蓬勃發(fā)展的態(tài)勢(shì)。EDI廣泛地應(yīng)用于電子、電力、生物、制藥、化工等諸多領(lǐng)域，是傳統(tǒng)離子交換混床工藝的取代技術(shù)。EDI的出現(xiàn)是水處理技術(shù)的一次革命性的進(jìn)步，標(biāo)志著水處理工業(yè)全面跨入綠色產(chǎn)業(yè)的行列。
二、產(chǎn)品規(guī)格：
規(guī)格及型號(hào)： MB-300 MB-400 MB-450 MB-500 MB-600 MB-700 MB-800 MB-900 MB-1000 MB-1200 MB-1400
產(chǎn)水量m3/h： 1(2) 2(4) 3(5) 4(7) 5(10) 5(15) 10(20) 15(25) 20(30) 25(40) 30(50)
荷重kg ：800 9000 11000
EDI裝置將離子交換樹(shù)脂充夾在陰/陽(yáng)離子交換膜之間形成EDI單元。EDI組件中將數(shù)量的EDI單元間用網(wǎng)狀物隔開(kāi)，形成濃水室。又在單元組兩端設(shè)置陰/陽(yáng)電極。在直流電的推動(dòng)下，通過(guò)淡水室水流中的陰陽(yáng)離子分別穿過(guò)陰陽(yáng)離子交換膜進(jìn)入到濃水室而在淡水室中去除。而通過(guò)濃水室的水將離子帶出系統(tǒng),成為濃水。 EDI設(shè)備一般以反滲透(RO)純水作為EDI給水。RO純水電阻率一般是40-2μS/cm(25℃)。EDI純水電阻率可以高達(dá)18 MΩ.cm(25℃)，但是根據(jù)去離子水用途和系統(tǒng)配置設(shè)置，EDI純水適用于制備電阻率要求在1-18.2MΩ.cm(25℃)的純水。
四、技術(shù)特點(diǎn)：
★可連續(xù)生產(chǎn)，產(chǎn)水電阻率高≥ 15 MΩ.cm
★產(chǎn)水率可以高達(dá)95%
★產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定。不需要配酸堿重生
★無(wú)污水產(chǎn)生。
★ 系統(tǒng)控制自動(dòng)化程度高，操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低。
五、產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：
連續(xù)運(yùn)行，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定;
無(wú)需酸堿重生，利于環(huán)保;
產(chǎn)水率高，占地面積小;
操作簡(jiǎn)單，容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制;
性能穩(wěn)定，維修工作量小;
運(yùn)行維護(hù)成本低。
六、應(yīng)用領(lǐng)域：
電子行業(yè)如顯像管玻殼、顯像管、單晶硅半導(dǎo)體、印刷線(xiàn)路板、液晶顯示器、光盤(pán)、計(jì)算器硬盤(pán)、集成電路芯片等清洗用水。
【河北華怡水處理設(shè)備有限公司】
【生產(chǎn)制造各系列水處理環(huán)保設(shè)備，主要有：反滲透凈水設(shè)備、多效蒸發(fā)器、污水處理設(shè)備、廢氣處理設(shè)備、純水設(shè)備、超濾設(shè)備、中水回用設(shè)備、電鍍廢水處理設(shè)備、污水處理一體化設(shè)備、MVR三效蒸發(fā)器等?！?br>【服務(wù)行業(yè)：電鍍表面處理、食品飲料、玻璃制造、化工、汽車(chē)用品、日化、乳品、生物制藥、電子、鍋爐、釀造、皮革、印染、涂染、顏料等。】
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【： 殷經(jīng)理 】
