概要
CS-153N是一款高精度的化學(xué)藥液濃度計(jì)，適用于半導(dǎo)體制造中濕法蝕刻制程的嚴(yán)苛要求。蝕刻制程使用FPM藥液刻蝕二氧化硅和去除晶圓表面的顆粒。CS-153可持續(xù)監(jiān)測(cè)FPM藥液(HF/H2O2/H2O)中各個(gè)成分，在每一次藥液需要替換或補(bǔ)充時(shí)向用戶發(fā)出信號(hào)。因此可使FPM藥液的濃度保持在一個(gè)適當(dāng)?shù)姆秶胁⒖杀苊獠槐匾乃幰禾娲?/p>
特征
- 監(jiān)測(cè)周期大約為3秒，支持300mm工藝的濃度管理
實(shí)現(xiàn)了以大約2秒為監(jiān)測(cè)周期(*)的高速響應(yīng)。支持向批次式和單槽式清洗裝置定時(shí)反饋濃度信息。
*不包含藥液的置換時(shí)間、冷卻時(shí)間
- 小巧化設(shè)計(jì)有利于節(jié)省清洗裝置的空間由于底面面積只有原來(lái)的2/3(*)左右，這種小巧化設(shè)計(jì)有利于清洗裝置節(jié)省空間?？梢院苋菀椎亟M裝到清洗裝置中。
*和本公司產(chǎn)品CS-327系列進(jìn)行比較
- 通過(guò)減少清洗工藝中的批次不良，提高產(chǎn)量
通過(guò)濃度計(jì)的信號(hào)輸出，進(jìn)行HF/HNO3溶液的補(bǔ)給控制，從而實(shí)現(xiàn)高再現(xiàn)性的清洗。減少清洗工藝中的批次不良，從而推進(jìn)產(chǎn)量的全面提高。
- 全自動(dòng)監(jiān)測(cè)與簡(jiǎn)易控制
用戶只需引入HF/HNO3溶液即可。監(jiān)測(cè)是全自動(dòng)方式，因此開(kāi)始監(jiān)測(cè)后不需要進(jìn)行任何控制。另外，由于參照光譜測(cè)量時(shí)使用的是空氣，所以不需要用水。
- 通過(guò)采取全面的氣泡對(duì)策
在脫泡槽中分離氣泡，在監(jiān)測(cè)過(guò)程中進(jìn)一步利用電磁閥把氣泡混入監(jiān)測(cè)單元內(nèi)的發(fā)生次數(shù)抑制在限度。
- 采用DC24V，實(shí)現(xiàn)高安全性
電源采用DC24V低壓電，提高了安全性以避免觸電事故的發(fā)生。并且，由于內(nèi)置漏水傳感器，在發(fā)生漏水時(shí)可以切斷HF/HNO3溶液的供應(yīng)等，采取緊急措施。
