低溫等離子設(shè)備工藝概述
/ Process Overview
低溫等離子體技術(shù)是近年發(fā)展起來(lái)的廢氣處理新技術(shù),低溫等離子體處理廢氣的原理為:當(dāng)外加電壓達(dá)到氣體的放電電壓時(shí),氣體被擊穿,產(chǎn)生包括電子、各種離子、原子和自由基在內(nèi)的混合體。低溫等離子體降解污染物是利用這些高能電子、自由基等活性粒子和廢氣中的污染物作用,使污染物分子在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,以達(dá)到降解污染物的目的。
低溫等離子體技術(shù)處理污染物的原理為:在外加電場(chǎng)的作用下,介質(zhì)放電產(chǎn)生的大量高能電子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹?jiǎn)單小分子安全物質(zhì),或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變?yōu)闊o(wú)毒無(wú)害或低毒低害物質(zhì),從而使污染物得以降解去除。因其電離后產(chǎn)生的電子平均能量在1eV~10eV,適當(dāng)控制反應(yīng)條件可以實(shí)現(xiàn)一般情況下難以實(shí)現(xiàn)或速度很慢的化學(xué)反應(yīng)變得十分快速。
電場(chǎng)的設(shè)計(jì)使廢氣粒子的運(yùn)動(dòng)速度較低,一般在零點(diǎn)幾秒內(nèi)便能使廢氣粒子荷上足夠的電荷,帶電粒子在電場(chǎng)中會(huì)受到電場(chǎng)力(庫(kù)侖力)的作用,其結(jié)果是油煙粒子被吸附到陽(yáng)極上。因此凈化率非常高,而且特別適用于捕捉粒徑較小和重量較輕的廢氣粒子。
電場(chǎng)的設(shè)計(jì)使廢氣粒子的運(yùn)動(dòng)速度較低,一般在零點(diǎn)幾秒內(nèi)便能使廢氣粒子荷上足夠的電荷,帶電粒子在電場(chǎng)中會(huì)受到電場(chǎng)力(庫(kù)侖力)的作用,其結(jié)果是油煙粒子被吸附到陽(yáng)極上。因此凈化率非常高,而且特別適用于捕捉粒徑較小和重量較輕的廢氣粒子。
低溫等離子設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
/ Product parameters
型號(hào) | 處理風(fēng)量(m3/h) | 外形尺寸(長(zhǎng)×寬×高)mm | 進(jìn)出口尺寸(寬×高)mm | 電場(chǎng)數(shù)量(個(gè)) | 高壓電源數(shù)量(套) | 功率(KW) | 交流電壓(V) | 設(shè)備重量(T) | 風(fēng)阻(Pa) |
HPDL-05 | 5000 | 1300×1350×1000 | 1000×760 | 4 | 1 | 0.5 | 220 | 0.30 | ≦100 |
HPDL-10 | 10000 | 2400×1350×1000 | 1000×760 | 8 | 2 | 1 | 220 | 0.55 | ≦100 |
HPDL-15 | 15000 | 3500×1350×1000 | 1000×760 | 12 | 3 | 1.5 | 220 | 0.85 | ≦100 |
HPDL-20 | 20000 | 2400×1350×1800 | 1000×1600 | 16 | 4 | 2 | 220 | 1.15 | ≦100 |
HPDL-30 | 30000 | 3500×1350×1800 | 1000×1600 | 24 | 6 | 3 | 220 | 1.60 | ≦200 |
HPDL-40 | 40000 | 4600×1350×1800 | 1000×1600 | 32 | 8 | 4 | 220 | 2.15 | ≦200 |
HPDL-50 | 50000 | 5700×1350×1800 | 1000×1600 | 40 | 10 | 5 | 220 | 2.70 | ≦200 |
HPDL-60 | 60000 | 3500×2700×1800 | 2080×1600 | 48 | 12 | 6 | 220 | 3.2 | ≦200 |
HPDL-80 | 80000 | 4600×2700×1800 | 2080×1600 | 64 | 16 | 8 | 220 | 4.4 | ≦250 |
HPDL-90 | 90000 | 3500×2700×2640 | 2080×2440 | 72 | 18 | 9 | 220 | 5.0 | ≦400 |
HPDL-100 | 100000 | 5700×2700×1800 | 2080×1600 | 80 | 20 | 10 | 220 | 5.50 | ≦300 |
低溫等離子設(shè)備工藝流程
/ Technological process
低溫等離子設(shè)備產(chǎn)品特點(diǎn)
/ Product features
高效的處理效果
運(yùn)行費(fèi)用低
維護(hù)方便
模塊化
占地面積小