電感耦合等離子體質(zhì)譜－ICP-MS，是一種新型的無機元素和同位素分析技術(shù)，可快速同時檢測周期表上幾乎所有元素。ICP-MS技術(shù)在分析能力上，超過傳統(tǒng)的無機分析技術(shù)如電感耦合等離子體光譜技術(shù)(ICPAES)、石墨爐原子吸收(GFAAS)和汞冷原子吸收技術(shù)(CVAAS)的總和，被稱為當代分析技術(shù)最激動人心的發(fā)展。

Agilent ICP-MS技術(shù)的應用領(lǐng)域包括：
● 環(huán)境樣品分析，包括自來水、地表水、地下水、海水以及各種土壤、廢棄物等的分析；
● 半導體材料分析
● 玻璃、陶瓷和礦冶等樣品分析；
● 地質(zhì)學研究；
● 生物食品及醫(yī)藥臨床研究；
● 核材料分析
● 石油化工樣品分析；
● 法醫(yī)應用與研究；
● 最近，與分離技術(shù)聯(lián)用進行環(huán)境毒理、生命科學等領(lǐng)域的元素價態(tài)、形態(tài)分析成為ICP-MS技術(shù)應用的一個焦點。
ICP-MS分析特性：
● 可快速同時檢測周期表上幾乎所有元素
● 的檢出限（低至ppq級）
● 分析效益/成本比
● 最寬的線性動態(tài)范圍—可直接檢測從ppq到數(shù)百ppm濃度
● 譜線、干擾最小，準確度和精密度好
● 需要樣品量很低(ul至ml)，分析速度很快（1～3分鐘/樣品）
● 檢測模式靈活多樣
半導體工業(yè)常用材料中超痕量污染物分析：
固體：Si;GaAa單晶切片；石英、碳化硅等爐材料；高純金屬電極等
液體：超純水；HF;HNO3;HCI;H2SO4;H2O2;氨水等
氣體：SiH4;TE0S;NF3;N2等
Agilent ICP-MS可直接分析有機樣品：
Agilent ICP-MS的高效能、高功率屏蔽矩冷等離子體技術(shù)已被用于測定一系列有機樣品的ppt級痕量污染元素。
● 對其中一些樣品，其他方法無法得到滿意的結(jié)果，高功率屏蔽矩冷等離子體技術(shù)是的分析方法。
● 強堿性清洗劑——四甲基氫氧化氨(TMAH)等
● 常用有機溶劑——甲苯、二甲苯、IPA等
● 高基體樣品——光刻膠、液晶、BPSG、PSG等揮發(fā)性的清洗劑——丙酮、甲醇等。