OAP烘箱,OAP處理烘箱的工藝
光刻的作用是把掩模版上的各形轉(zhuǎn)換成晶圓十的器件結(jié)構(gòu),它對集成電路圖形結(jié)構(gòu)的形成,如各層薄膜的各形及摻雜區(qū)域等,均起著決定性的作用。光刻的基本流程中第一步,前處理就是需要將基片親水性改為疏水性,即OAP(HMDS預(yù)處理)工藝。
OAP烘箱,OAP處理烘箱簡介
OAP處理烘箱,也稱為HMDS烘箱、HMDS預(yù)處理系統(tǒng)。用HMDS溶液:六甲基二硅胺烷)成底膜進行表面處理,它起到提高粘附力的作用,在硅片成底膜操作后盡快涂膠。OAP烘箱是采用氣相成底膜的方式來完成HMDS的涂覆工藝,優(yōu)點是,整個工藝在密閉的環(huán)境中,外界沒有與硅片接觸減少了來自液體HMDS顆粒沾污的可能,HMDS的消耗量也小。
OAP烘箱指標(biāo)
HMDS藥液泄漏報警提示功能
HMDS低液位報警提示功能
工藝數(shù)據(jù)記錄功能
HMDS管道預(yù)熱功能
程序鎖定保護等功能
尺寸(深*寬*高)
內(nèi)腔尺寸:450×450×450(mm)(可定制)
材質(zhì):外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑,內(nèi)箱采用 316L 醫(yī)用級不銹鋼
溫度范圍:RT+50-200℃
溫度波動度:≤±0.5
真空度:≤1torr
HMDS控制:可控制HMDS 藥液添加量
真空泵:無油渦旋真空泵