納米材料粒度測試方法大全
納米材料是指三維空間尺寸中至少有一維處于納米數量級（1~100 nm），或由納米結構單元組成的具有特殊性質的材料，被譽為“21世紀重要戰(zhàn)略性高技術材料之一”。當材料的粒度大小達到納米尺度時，將具有傳統(tǒng)微米級尺度材料所不具備的小尺寸效應、量子尺寸效應、表面效應等諸多特性，這些特異效應將為新材料的開發(fā)應用提供嶄新思路。
X射線光電子能譜儀AXIS ULTRA DLD的介紹
X射線光電子能譜儀由島津制作所Ｈ首庸?-英國KRATOS公司生產。AXIS ULTRA DLD 是實時成像XPS的產品?？臻g分辨率小于3μm。
1.可集成多種分析技術
AXIS ULTRA DLD標準配備了具有多個國際標準窗口的樣品處理室，作為樣品的前處理腔，功能強大且擴展性強。能?對應樣品加熱制冷及具有反應功能的樣品反應池，多樣品停放器等許多選購件。樣品分析室可以增加UPS、FE-AES、ISS等分析方法，可以組合成復合分析裝置。
2.延遲線探測器（DLD）系統(tǒng)
采用了延遲線探測器。既可以生成譜圖又可以生成圖像。各測定模式均可以提供正確的脈沖計數。不僅可以在描譜儀模式下，通過128個檢測通道提供高靈敏度的測定，還可以不通過分析器的能量掃描，利用快速非掃描的“快照”譜儀模式瞬間測定窄掃描譜。成像模式能夠提供256×256像素、空間分辨率小于3μm的苑直媛釋枷瘛Ⅻbr />
3.平行成像和微區(qū)譜圖
采用平均半徑達165mm的大型靜電半球分析器與成像專用的球鏡分析器組合的合成分析器。在進行化學狀態(tài)分析、深度方向分析等的譜儀分析時，通過大型靜電半球分析器能夠提供高能量分辨率、高靈敏度的測定。多點微區(qū)測定時利用輸入透鏡內的光電子偏轉系統(tǒng)，能夠實現準確的點分析。 利用球鏡分析器進行平行成像。光電子成像的空間分辨率小于3μm，能夠在譜儀測定的同時，極短時間內得到高分辨率圖像。
