OTF-1200X-50-DSL 定向CVD生長爐(英文版操作視頻)

OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑軌爐,其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動速度可以根據(jù)實驗需要而設置(1mm/sec-100mm/s),并可以設置左右反復滑動,同時還可以設置爐體的滑動距離。此款管式爐專門設計用CVD方法定向生長單壁碳納米管(SWCNTs)。通時此款滑軌爐也可用來在硅片上生長熔點較低的金屬單晶。此系統(tǒng)包含了可設30段程序的高溫爐、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭。
性能指標和基本配置 | ||
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爐體結(jié)構(gòu) | ● 采用雙層殼體結(jié)構(gòu),并帶有風冷系統(tǒng) | |
功率 | 1.5KW | |
電壓 | AC220V,單相 | |
共工作溫度 | 1200℃(≤1小時) | |
連續(xù)工作溫度 | 1100℃ | |
加熱區(qū)域 | ● 加熱區(qū):200mm(單溫區(qū)) | |
加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁(表面涂有高溫氧化鋯涂層,可延長其使用壽命) | |
爐管 | ● 高純石英管 | |
溫控系統(tǒng) | ● 采用PID方式調(diào)節(jié)溫度,可設置30段升溫、降溫和保溫程序 | |
爐體滑動控制系統(tǒng) | ● 觸摸屏控制 | |
密封法蘭 | ● 儀器中配有一套不銹鋼密封法蘭(上面已安裝不銹鋼針閥和機械壓力表) | |
石英氣體噴嘴 | 可選配石英氣體噴嘴,將反應氣體與緩沖清洗氣體分開通入,可有效減少副反應發(fā)生,實現(xiàn)CVD工藝,如局部控制前體濃度化學氣相沉積工藝(ALC CVD)或單晶二維材料薄膜的生長工藝等。 | |
真空度 | ● 10E-5 torr (用分子泵) | |
滑軌長度 | 1200mm | |
產(chǎn)品尺寸 | ● 315 x 300 x 380 mm (爐體) | |
重量 | 100Kg | |
質(zhì)量認證 | CE certified | |
保修期 | 一年保修,終身技術(shù)支持。 特別提示: 1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 點擊查看售后服務承諾書。 | |
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