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反應離子刻蝕機( RIE )

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱湖南艾科威半導體裝備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2022/12/23 17:03:57
  • 訪問次數(shù)258
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湖南艾科威智能裝備有限公司是集科研、制造、生產、銷售、服務為一體的,業(yè)務主要覆蓋集成電路、分立器件、5G通訊、光電器件、傳感器等半導體領域,設備廣泛用于科研機構,大專院校,生產企業(yè)和公司的器件研究,開發(fā)和批量生產。公司致力于更*的設備與系統(tǒng)解決方案供應商。 公司擁有一批在半導體裝備領域豐富經(jīng)驗的專業(yè)技術團隊。各類技術人才齊全,具有自主研發(fā),設計和生產的能力,公司始終堅持"質量是企業(yè)的生命,創(chuàng)新是企業(yè)發(fā)展的動力"為客戶提供更優(yōu)質的產品和便捷的服務。 公司產品與工藝相結合,依托完備的設計基礎和優(yōu)勢的工藝技術力量,公司在產品設備上,開發(fā)了相應的工藝,達到工藝與設備的結合,讓用戶獲得更佳的效果及解決方案. 服務領域集成電路、混合電路、分立器件、5G通訊、光電器件、傳感器、微波器件。
設備概述  反應離子刻蝕(RIE)是利用射頻放電使反應氣體電離產生活性離子,利用活性離子與工件表面材料進行化合生成揮發(fā)性產物被真空泵抽走,從而實現(xiàn)對工件表面材料的去除,屬干法刻蝕設備。廣泛應用于半導體器件、電力電子器件、光電子、太陽能電池、微機械等領域。 設備特點●反應壓力恒定、自動控制,工藝重復性好●工藝氣體噴淋耦合,刻蝕均勻性好●工藝過程自動控制,操作簡單、方便 技術指標●適用晶片尺寸:4"~
反應離子刻蝕機( RIE ) 產品信息
設備概述
  反應離子刻蝕(RIE)是利用射頻放電使反應氣體電離產生活性離子,利用活性離子與工件表面材料進行化合生成揮發(fā)性產物被真空泵抽走,從而實現(xiàn)對工件表面材料的去除,屬干法刻蝕設備。廣泛應用于半導體器件、電力電子器件、光電子、太陽能電池、微機械等領域。
 
設備特點
●反應壓力恒定、自動控制,工藝重復性好
●工藝氣體噴淋耦合,刻蝕均勻性好
●工藝過程自動控制,操作簡單、方便
 
技術指標
●適用晶片尺寸:4"~8";
●均勻性: ± 5%(片內), ± 3%(批間)
●基片臺冷卻:水冷
 
應用范圍
  用于在基板表面拋光或材料的去除,尤其適用于非金屬材料、氧化物薄膜的快速刻蝕,如多晶硅、SiO2、Si3N4等。
關鍵詞:真空泵 電池
15700106413
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