l 系統(tǒng)采用雙頻激光發(fā)射器及多軸路干涉信號(hào)同步數(shù)據(jù)處理器，是真正意義上的雙頻激光干涉儀，頻差為640MHz。請用戶注意“激光干涉儀”和“雙頻激光干涉儀”概念的區(qū)別，雙頻激光干涉儀精度更好、性能更穩(wěn)定。世界范圍內(nèi)只有兩家雙頻激光干涉儀的生產(chǎn)商，德國耶拿爾公司是其中的一家。
l 全部部件皆在德國生產(chǎn)制造，絕非為了降低成本而在第三方國家進(jìn)行部件加工。光學(xué)組件全部采用蔡司光學(xué)鏡，是世界上一家將的蔡司光學(xué)鏡用于激光干涉儀領(lǐng)域的產(chǎn)品制造商。
l 激光器壽命更長，可達(dá)20000小時(shí)，激光穩(wěn)頻精度高，一小時(shí)內(nèi)為±0.002ppm，在產(chǎn)品壽命內(nèi)可達(dá)±0.02ppm。
l 干涉鏡采用差分干涉原理，系統(tǒng)精度更高，可達(dá)±0.4ppm。
l 基于可朔源的激光波長為位移量度量基準(zhǔn)，應(yīng)用雙頻激光外差式干涉原理及交流光電信號(hào)處理器，克服了單頻激光干涉測量的直流電平漂移及受環(huán)境因素光強(qiáng)變化約束的弊端，具有的增益、高信噪比和抗電磁干擾性能，實(shí)現(xiàn)了可朔源的多光路外差式激光干涉測量。
l 采樣頻率更快，達(dá)1MHz，可在0.001Hz-1MHz之間進(jìn)行選擇。
l 被測物體速度16m/s（可選）；采用高精度AE950 PCI數(shù)據(jù)處理器，分辨率達(dá)0.6nm（當(dāng)移動(dòng)速度為1m/s時(shí)，線性分辨率更可高達(dá)為0.1nm）。
l 無加速度限制；當(dāng)光線微弱時(shí)，性能也十分穩(wěn)定。
l 信號(hào)延時(shí)<200ns；對電磁干擾不敏感。
l 對于多軸聯(lián)動(dòng)復(fù)雜光路的角度和微位移的測量，ZLM800型是理想的選擇。
技術(shù)參數(shù)
| 型號(hào)：ZLM800 | 使用高性能PCI或機(jī)架式數(shù)據(jù)處理器 |
| He-Ne激光平均波長： | 632.8 nm |
| 激光穩(wěn)頻精度： | 一小時(shí)2x10-9（±0.002ppm） 壽命內(nèi)2x10-8（±0.02ppm） |
| 系統(tǒng)精度（0-40℃時(shí)）： | ±0.4ppm |
| 光束直徑： | 6mm (可選3.2mm) |
| 激光管突發(fā)輸出功率： | 5mW (激光等級(jí)2) |
| 每束光可測量的軸數(shù)： | 最多6個(gè) |
| 線性測量距離： | 2m |
| 角度測量范圍： | ± 10° |
| 速度： | 2m/s |
| 加速： | 無限制 |
| 采樣頻率： | 內(nèi)部1MHz，外部40MHz |
| 預(yù)熱時(shí)間： | 10分鐘 |
| 位移測量分辨率： | 1.25nm |
| 位移測量精度（20℃±0.5℃時(shí)）： | ±0.4ppm (μ/m) |
| 角度測量分辨率： | 0.012角秒 |
| 角度測量精度： | |
| 數(shù)據(jù)接口： | 積分信號(hào)
32 Bit (實(shí)時(shí)時(shí)間)
數(shù)據(jù)延時(shí)< 20 ns |
| 數(shù)據(jù)分析標(biāo)準(zhǔn)： | ISO230/VDI3441/VDI2617/NMTBA |
| 工作環(huán)境： | 溫度：15°C-30°C 濕度：<90%無冷凝 |
| 儲(chǔ)存環(huán)境： | 溫度：10°C-40°C 濕度：<95%無冷凝 |
應(yīng)用案例 以下是為某項(xiàng)目設(shè)計(jì)的ZLM800兩個(gè)應(yīng)用案例。在個(gè)案例中，用兩個(gè)3軸角度干涉儀分別監(jiān)視兩個(gè)擺鏡的擺動(dòng)，實(shí)時(shí)測試兩個(gè)擺鏡對應(yīng)量（俯仰、偏擺和位移）的差異情況。在第二個(gè)案例中，用一個(gè)3軸角度干涉儀來測試擺鏡的鏡面擺動(dòng)情況，2個(gè)單軸位移干涉儀檢測一個(gè)兩軸位移平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)情況。
下述案例是為國內(nèi)某研究所某項(xiàng)目設(shè)計(jì)的ZLM800測量系統(tǒng)。用戶預(yù)先把被測物體放置在密閉箱中，密閉箱留有觀察窗口。所需要測量的數(shù)據(jù)是被監(jiān)視目標(biāo)Ⅰ、被監(jiān)視目標(biāo)Ⅱ的X、Y向的角度變化量，以及這兩個(gè)目標(biāo)在Z方向的相對變化量。
ZLM800部分光路圖示例
從X、Y和Z方向同時(shí)測量位移變化，其中X和Y在一個(gè)水平層面上
從X、Y和Z方向同時(shí)測量位移變化，其中X和Y不在一個(gè)水平層面上
在水平方向同時(shí)測量位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖）
在垂直方向同時(shí)測量位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖）
同時(shí)從X和Y方向測量位移和偏擺變化（上圖）
同時(shí)從X和Y方向測量運(yùn)動(dòng)平臺(tái)兩個(gè)層面的位移變化（上圖）
同時(shí)從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的角度的變化（1）
同時(shí)從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（2）
同時(shí)從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（3）
機(jī)床行業(yè)對線性編碼器和旋轉(zhuǎn)編碼器的動(dòng)態(tài)同步進(jìn)行標(biāo)定（三個(gè)軸路）
光刻機(jī)應(yīng)用布置圖，測量位移和角度變化
視頻資料（光刻機(jī)應(yīng)用）
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