RIE Etchlab 200
現(xiàn)價比高
反應離子刻蝕機 Etchlab 200采用直接裝片的平行板式等離子源設計。
擴展性強
Etchlab 200可方便升級，包括抽速更大的真空單元、預真空室及附加氣路等。
控制軟件
控制軟件包括模擬用戶界面，參數(shù)窗口，工藝程序編輯器，數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。
Etchlab 200 RIE 刻蝕機是直接裝載晶圓片等離子刻蝕設備，兼有平行板電極的優(yōu)勢。
Etchlab 200可以簡單快速的裝載直徑200或300mm的晶圓片到載片盤或電極上，具有靈活、模塊化和小型化的設計特點。
電極頂部有大尺寸觀察診斷窗口，同時反應器能集成SENTECH激光干涉儀或者OES、RGA系統(tǒng)。可以使用SENTECH橢偏儀，通過專用的橢偏儀端口進行在線工藝監(jiān)控。
Etchlab 200適用于可以直接裝載的晶圓片刻蝕，包括硅、硅化物、III-V族化合物半導體、電介質(zhì)和金屬等材料。
Etchlab 200可以通過SENTECH控制軟件界面進行遠程操作。
