日立紫外/臭氧清洗設(shè)備ZONETEM II
日立紫外清洗設(shè)備是利用紫外光和臭氧對(duì)樣品表面污染物進(jìn)行清理的前處理設(shè)備,主要針對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物,相比等離子清洗更加溫和,對(duì)樣品損傷小。
真空系統(tǒng):
無(wú)油真空系統(tǒng)(干泵3.8L/min)
3min內(nèi)達(dá)到所需真空度清洗系統(tǒng):
2種清洗模式
真空清洗和真空儲(chǔ)存
清洗時(shí)間范圍為1min-30min(步幅1min)
真空系統(tǒng):
樣品桿:
3孔或5孔可選
適合于各型號(hào)透射電鏡樣品桿
有效清理區(qū)域直徑3mm