PI無氧烘箱工藝流程
PI光刻膠是一種高性能、高精度的光刻膠,被廣泛應(yīng)用于微電子、光電子、MEMS等領(lǐng)域
PI無氧烘箱工藝的必要性:
PI光刻膠的預(yù)烘是將其涂覆在襯底上后,在特定溫度下進(jìn)行一段時(shí)間的烘千,使PI溶液中的溶劑揮發(fā)掉,PI形成一定的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)并增強(qiáng)其附著性。無氧烘箱用于半導(dǎo)體/電子/新材料/新能源等行業(yè)。BCB、PI、PBO膠固化,LCP新材料、鋰電池等產(chǎn)品熱處理。
PI無氧烘箱工藝流程要求(參考):
在低氧狀態(tài)下使用
真空加熱,升溫至1xx℃
再溫至1xx℃(約xh),保溫約 30min;
繼續(xù)升溫至x00℃,視涂層厚度不同加熱10-x0min
保溫 約60min;
降溫至100℃以下
PI無氧烘箱性能:
溫度:室溫+50~400℃
氧濃度:≤10ppm
真空度:1Torr
冷卻裝置:輔助降溫
控制方式:可程式運(yùn)行
無氧烘箱,真空無氧烘箱,無塵烘箱,HMDS烘箱,硅烷蒸鍍機(jī),無塵無氧烘箱,氮?dú)夂嫦?,鼓風(fēng)真空烘箱,超低溫試驗(yàn)箱,快溫變試驗(yàn)箱,恒溫恒濕試驗(yàn)箱,高低溫沖擊試驗(yàn)箱等設(shè)備,以及非標(biāo)定制。---上海雋思儀器專業(yè)生產(chǎn)/服務(wù)!
PI光刻膠的制備一般采用溶解法或乳化法。溶解法是將PI粉末在氮?dú)鈿夥障氯苡诩状蓟虮扔袡C(jī)溶劑中,加入一定的表面活性齊并在攪拌和加熱條件下使其溶解成為PI溶液。乳化法是將PI顆粒懸浮于水相中,經(jīng)過乳化劑的加入后與有機(jī)相反復(fù)振蕩,使PI成為均勻的乳狀體,最終得到PI乳液。