環(huán)保在線>產(chǎn)品庫>儀器主類>分析儀器>能譜儀>>PHI Quantera II X射線光電子能譜儀

PHI Quantera II X射線光電子能譜儀

參考價(jià)	面議

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱上海禹重實(shí)業(yè)有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2023/4/6 16:36:14
訪問次數(shù)216

產(chǎn)品標(biāo)簽:

在線詢價(jià)收藏產(chǎn)品點(diǎn)擊查看電話

索取相關(guān)資料

公司介紹主營產(chǎn)品

禹重科技(UZONGLAB)是一家立足華東，以拓展全國市場為主的進(jìn)口儀器貿(mào)易和技術(shù)咨詢服務(wù)公司，下設(shè)三個(gè)事業(yè)部和一個(gè)中心，即分析儀器事業(yè)部、標(biāo)耗備件事業(yè)部、大客戶項(xiàng)目部、以及中禹聯(lián)重檢測技術(shù)中心。　　作為Thermo Science(賽默飛)、ZEISS(蔡司)、 Zwick(茲維克)和INNOVATEST(軼諾)品牌的核心代理商，禹重科技?(UZONGLAB)將*的分析測試前沿技術(shù)和產(chǎn)品帶給國內(nèi)客戶，為高校、科研院所、政府機(jī)構(gòu)以及材質(zhì)工業(yè)過程控制等行業(yè)，提供金屬和非金屬材料的成分分析儀器、表面分析儀器、硬度和力學(xué)設(shè)備以及樣品前處理平臺(tái)等儀器產(chǎn)品，同時(shí)提供標(biāo)準(zhǔn)樣品和小型試驗(yàn)設(shè)備銷售、材料測試咨詢等綜合服務(wù)。　　從冶金鑄造和功能材料的開發(fā)；船舶建造和石化裝備升級(jí)換代；到汽車零部件和電子電工的可靠性測試；環(huán)境檢測和工業(yè)品品質(zhì)的不斷提升，禹重科技?(UZONGLAB)在這些方面都發(fā)揮著實(shí)實(shí)在在的作用。　　我們具備豐富的經(jīng)驗(yàn)，充分了解每個(gè)客戶的核心需求，并致力于提供Z佳的解決方案。為客戶提供更專業(yè)、更安全、更便捷的產(chǎn)品和服務(wù)是我們的*目標(biāo)。

展開顯示更多內(nèi)容

，，

產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業(yè)界獲得非常成績的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性超卓技術(shù)包括有：一個(gè)*微集中掃描的X射線來源，的雙光束的電荷中和技術(shù)，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進(jìn)行XPS的深度分析

PHI Quantera II X射線光電子能譜儀產(chǎn)品信息

PHI Quantera II X射線光電子能譜儀是Ulvac-Phi公司以在業(yè)界獲得非常成績的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所研發(fā)的XPS分析儀器，其革命性超卓技術(shù)包括有：一個(gè)*微集中掃描的X射線來源，的雙光束的電荷中和技術(shù)，在極低電壓下仍可保持高性能的離子束源以進(jìn)行XPS的深度分析，一個(gè)五軸精密的樣品臺(tái)和負(fù)責(zé)全自動(dòng)樣品傳送的機(jī)械手臂，與及一個(gè)自動(dòng)化且可支持互聯(lián)網(wǎng)遠(yuǎn)程控制的儀器操作平臺(tái)。
PHI Quantera II X射線光電子能譜儀增加了這些革命性的技術(shù)性能和生產(chǎn)力，再一次提供了zui高性能的XPS系統(tǒng)，以滿足您當(dāng)前和未來的XPS需要。
優(yōu)點(diǎn)：
容易使用：無論您是在分析一個(gè)薄膜樣品、有機(jī)聚合物、一個(gè)大的塑料鏡片，不銹鋼刀片又或是焊錫球;所有的儀器設(shè)置和設(shè)定都是相同的。用者只需用鼠標(biāo)點(diǎn)在一個(gè)光學(xué)圖像單擊選擇一個(gè)或多個(gè)分析地區(qū)，加上雙光束中和系統(tǒng)和自動(dòng)Z-軸高度調(diào)整功能，就可以透過儀器軟件的自動(dòng)隊(duì)列執(zhí)行所有分析。整個(gè)操作流程不需要任何的設(shè)定調(diào)整，不用因不一樣樣品成份而有任何顧慮，甚至也不需要有操作員整天待在儀器旁邊；一切的操作都可以自動(dòng)的完成。
薄膜分析：Quantera II 不僅提供了無機(jī)薄膜樣本良好的深度剖面分析性能，而且也可以在利用C60離子槍對(duì)有機(jī)薄膜得出非常*的深度分析結(jié)果。
掃描：PHI使用了*的聚焦掃描X射線源，使XPS微區(qū)分析變得更高效。如圖4所示，X射線源是經(jīng)由聚焦電子光柵掃描并撞擊在鋁陽極上所產(chǎn)生的，而此產(chǎn)生的聚焦鋁X射線會(huì)再透過橢球形狀的單色器反射在樣品表面上。當(dāng)電子束掃描在鋁陽極上時(shí)，所產(chǎn)生的X射線束在樣品上也會(huì)作出同步的掃描。X射線束的直徑大小可調(diào)范圍為7.5微米以下到400微米以上。
微區(qū)光譜：在光學(xué)顯微鏡，在這透明的聚合物薄膜表面上是沒有發(fā)現(xiàn)任何污染物的。但是如以下圖５中所示，使用二次電子影像時(shí)就立即顯示了在聚合物表面上的化污染物的存在。在短短幾分鐘內(nèi)，Quantera II儀器就可以利用一個(gè)直徑為20微米的X射線束得到確定的氟碳污染物。