JELIGHT UVO-Cleaner Model 42 紫外臭氧清洗機(jī)簡(jiǎn)介UV+O(原子氧)清潔法是一種光敏氧化過(guò)程,其中光抗蝕劑、樹(shù)脂、人體皮膚油、清潔溶劑殘留物、硅油和助熔劑的污染物分子通過(guò)短波紫外線輻射的吸收被激發(fā)和/或解離。分子氧經(jīng)184.9nm分解,臭氧經(jīng)253.7nm分解,同時(shí)生成原子氧。253.7nm輻射被大多數(shù)碳?xì)浠衔锖统粞跷铡N廴疚锓肿拥倪@種激發(fā)產(chǎn)物與氧原子反應(yīng),形成更簡(jiǎn)單的揮發(fā)性分子,從表面解吸。因此,當(dāng)兩種波長(zhǎng)同時(shí)存在時(shí),原子氧不斷產(chǎn)生,臭氧不斷形成和破壞。通過(guò)將適當(dāng)?shù)念A(yù)清潔樣品放置在臭氧產(chǎn)生UV源的5毫米范圍內(nèi),例如UVO-Cleaner®內(nèi)部的低壓汞蒸汽網(wǎng)格燈,可以在不到一分鐘的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)接近原子清潔的表面。此外,該工藝不會(huì)損壞MOS柵氧化物的任何敏感器件結(jié)構(gòu)。ufo - cleaner®是去除硅,砷化鎵,石英,藍(lán)寶石,玻璃,云母,陶瓷,金屬和導(dǎo)電聚酰亞胺水泥中的有機(jī)污染物的,的方法。它的建造壽命長(zhǎng),維護(hù)成本低,服務(wù)。應(yīng)用程序:•在薄膜沉積/剝離和穩(wěn)定光刻膠之前清洗襯底•硅片、透鏡、反射鏡、太陽(yáng)能電池板、冷軋鋼、慣性制導(dǎo)子組件和GaAs晶圓的清洗•焊劑、混合電路和平板LCD的清洗•蝕刻Teflon®,Viton®和其他有機(jī)材料•增強(qiáng)GaAs和Si的氧化鈍化表面•減少玻璃的放氣去除晶圓膠帶•提高涂料對(duì)塑料的附著力•測(cè)試后從晶圓上去除油墨•剝離光刻膠•從光刻板中去除潛在圖像•清洗光刻版•在硅片上生長(zhǎng)氧化層•在包裝/粘合前清洗電路板•增加表面親水特性•生物科學(xué)應(yīng)用的清洗和滅菌•清洗電子顯微鏡探針/載玻片或光纖/透鏡紫外清洗優(yōu)點(diǎn)1. 被清洗的表面除了光子,不與任何物體發(fā)生接觸,有機(jī)物經(jīng)過(guò)紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后,生成可揮發(fā)性氣體 (CO2、CO、H2O) 等從表面消散,隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走。2. 表面潔凈度高,且不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。3. 光清洗的表面不會(huì)受到損傷,由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小,光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。4. 光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位(如孔穴、微細(xì)溝槽等)具有有效而的清洗效果。 由于紫外光是納米短波紫外線,能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位,發(fā)生光敏氧化反應(yīng),充分表現(xiàn)出光清洗的性。可選設(shè)備:所有裝置均配有臭氧殺滅器和鼓風(fēng)機(jī)套件,無(wú)需外部排氣即可使用該裝置。臭氧殺手將解離排氣中的微量臭氧,而鼓風(fēng)機(jī)將增加排氣流量。單位尺寸可根據(jù)客戶需求定制??赡苄枰Ц额~外費(fèi)用。設(shè)備提供以下電源配置:120V/60Hz 220V/50Hz220V/60Hz100V 50/60Hz**臭氧濃度以及樣品與紫外線源之間的距離會(huì)極大地影響清潔速率。
Outer DimensionsLength Width Height Exhaust Port Media Inlet Port (2x)350 mm 220 mm 225 mm 50.8 mm 9.5 mm
Tray DimensionsWidth Length Height (Adjustment Range)165 mm 165 mm] 6 mm ~ 38 mm
Grid LampType Average Intensity Distance Measured Away From LampLow Pressure Mercury (Hg) Vapor 28 ~ 32 mW/cm² @ 253.7 nm .12” ~ .20” [3 ~ 5 mm]
Electrical CharacteristicsOutput PowerVoltage Current6000 Vpeak-peak 30 mA
Available Input Power RequirementsModel Voltage Frequency Current42 120 VAC 60 Hz 2.0 A42-220 220 VAC 50 Hz 3.0 A42-220-60 220 VAC 60 Hz 2.0 A42-100 100 VAC 50/60 Hz 2.0 A42 W/ ELAPSE TIMER 120 VAC, 220VAC 60 Hz, 50Hz 2.0 A, 3.0A
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Q:OXYCYCLE™氧氣回收裝置介紹
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Q:不同晶體結(jié)構(gòu)二氧化錳上氣態(tài)臭氧的催化分解
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Q:多相臭氧催化氧化對(duì)某染料廢水生化出水效果實(shí)驗(yàn)研究
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A:臭氧投加速率對(duì)苯胺降解的影響 廢水中含有苯胺,且其質(zhì)量濃度為25,mg/L 左右,為保證其排放;