英國Denton 磁控濺射及電子束蒸發(fā)薄膜沉積平臺(tái)
DENTON 薄膜沉積平臺(tái)
?R & D
?批量生產(chǎn)
?在線生產(chǎn)
?蒸發(fā)
?濺射
?PE-CVD
DENTON 的區(qū)別
你們的過程就是我們的過程。
我們與您合作設(shè)計(jì)一個(gè)系統(tǒng),以解決您的確切薄膜涂裝工藝的需要。當(dāng)我們給你運(yùn)送工具時(shí),它已經(jīng)準(zhǔn)備好生產(chǎn)了。
?我們的系統(tǒng)規(guī)??梢詽M足您的生產(chǎn)需求
?我們永遠(yuǎn)相信客戶
?支持網(wǎng)絡(luò)
在DENTON,我們關(guān)心你的成功
?工廠驗(yàn)收測試
?個(gè)性化培訓(xùn)
?遠(yuǎn)程、實(shí)時(shí)支持
?CE / UL / CSA兼容系統(tǒng)
強(qiáng)大的控制系統(tǒng):
可在半手動(dòng)模式或全自動(dòng)模式與一個(gè)推動(dòng)自動(dòng)化,以減少系統(tǒng)停機(jī)時(shí)間。
能濺射:
電、磁、復(fù)合材料。柔性陰極,調(diào)整到?jīng)_擊角也可用
Processpro升級(jí)提供
1.所有登頓真空產(chǎn)品的一致性控制。
2.標(biāo)準(zhǔn)軟件使其易于支持和避免昂貴的定制費(fèi)用。
3.源代碼為您的程序,以便您可以自定義您的程序。
4.網(wǎng)絡(luò)功能使資源管理器
網(wǎng)絡(luò)上支持實(shí)時(shí)、遠(yuǎn)程支持和升級(jí)的節(jié)點(diǎn)
靈活的室大小;
可容納多達(dá)10英寸的襯底。
多個(gè)泵配置:
多種擴(kuò)散、低溫和渦輪泵配置可用于滿足您的預(yù)算和工藝。后方或底部安裝的泵提供方便的訪問服務(wù),根據(jù)您的工作場所的需要。
濺射:
?材料研究
?產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量保證
?半導(dǎo)體失效分析
?CD掌握
?納米技術(shù)
?化合物半導(dǎo)體
?oled
蒸發(fā):
?材料研究
?離子輔助沉積(IAD)
?醫(yī)療設(shè)備
?電信
?CD掌握
?發(fā)射
?保護(hù)涂層
選項(xiàng)
典型的應(yīng)用:
PE-CVD
?材料研究
?小批處理系統(tǒng)
?3 d對(duì)象
?覆蓋各種材料