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廣電計量檢測集團股份有限公司

德國Sentech 等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市科時達電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號ICP-RIE SI
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/6/16 18:39:03
  • 訪問次數(shù)256
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深圳市科時達電子科技有限公司創(chuàng)建于2011年,經(jīng)過十年的發(fā)展,已經(jīng)成長為一家專注于電子材料、半導(dǎo)體儀器設(shè)備、醫(yī)療設(shè)備三大產(chǎn)品領(lǐng)域的,是一家集研發(fā)、制造、銷售為一體的企業(yè)。我們的主營業(yè)務(wù)涉及了研發(fā)銷售及加工電子材料及周邊產(chǎn)品;電子光電產(chǎn)品設(shè)備研發(fā)組裝及銷售,半導(dǎo)體儀器設(shè)備銷售;國內(nèi)貿(mào)易、貨物及技術(shù)進出口;醫(yī)療器械研發(fā)及銷售;醫(yī)用耗材及醫(yī)療用品的銷售等??萍紕?chuàng)新是科時達公司的核心競爭力。我們擁有一支高度專業(yè)化的技術(shù)研發(fā)和管理團隊,建立了國內(nèi)的實驗室和光電研究中心,與多家科研機構(gòu)與大專院校開展“產(chǎn)、學(xué)、研”合作,成功開發(fā)出一系列具有高科技含量的市場產(chǎn)品,公司產(chǎn)品通國內(nèi)科研機構(gòu)的產(chǎn)品認證。同時,公司擁有電子信息領(lǐng)域相對完備的科技創(chuàng)新體系,在電子裝備、醫(yī)療設(shè)備、產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)、網(wǎng)絡(luò)安全等領(lǐng)域占據(jù)技術(shù)主導(dǎo)地位,肩負著支撐科技自立自強、推進國內(nèi)科技現(xiàn)代化、加快數(shù)字經(jīng)濟發(fā)展、服務(wù)社會民生的重要職責(zé)。聚焦“三大定位”主責(zé),科時達公司按照“做優(yōu)電子裝備、做大儀器設(shè)備、做精產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)、做強研發(fā)銷售”的總體布局,持續(xù)優(yōu)化核心業(yè)務(wù)體系,推動企業(yè)在科技現(xiàn)代化建設(shè)、現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)體系建設(shè)的核心關(guān)鍵技術(shù)節(jié)點上“布點”,在產(chǎn)業(yè)鏈價值鏈創(chuàng)新鏈關(guān)鍵環(huán)節(jié)上“成線”,在關(guān)系國家、國民經(jīng)濟命脈和國計民生關(guān)鍵領(lǐng)域上“控面”。做強電子裝備,重點發(fā)展利用聲、光、電磁信號進行信息感知、傳輸、運用等的系統(tǒng)級裝備和產(chǎn)品,打造全域多維一體新一代電子裝備,不斷夯實在高校科研領(lǐng)域和高科枝企業(yè)的提供地位。做大儀器設(shè)備,重點發(fā)展半導(dǎo)體儀器基礎(chǔ)設(shè)施和醫(yī)療設(shè)備應(yīng)用與整體解決方案,全面支撐基于網(wǎng)絡(luò)信息體系的聯(lián)合和全域能力提升、國家治理能力提升和數(shù)字化發(fā)展。做精產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),重點打造形成電子基礎(chǔ)產(chǎn)品科研和生產(chǎn)的基礎(chǔ)支撐能力,以夯實產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)鏈自主可控能力為根本目標(biāo),推動以“科時達基因”為核心的銷售集群式發(fā)展。做強研發(fā)銷售,致力于電子產(chǎn)品的研發(fā)。科時達公司是一家,多年來公司研發(fā)團隊致力于電子材料、半導(dǎo)體儀器和醫(yī)療設(shè)備的研發(fā)。同時企業(yè)還致力于將產(chǎn)品做好國內(nèi)外市場銷售,在整體銷售模式中具備一套完整的銷售體系。以客戶需求為導(dǎo)向,以質(zhì)量求生存,科時達公司以超凡的品質(zhì)和優(yōu)良的服務(wù),獲得國內(nèi)外市場的一致認可;公司營銷網(wǎng)絡(luò)覆蓋,產(chǎn)品世界各地,目前已經(jīng)成為國內(nèi)電子科技行業(yè)中重要的生產(chǎn)制造基地。
德國Sentech等離子刻蝕機ICP-RIESI500低損傷刻蝕由于離子能量低,離子能量分布帶寬窄,因此可以用我們的等離子體刻蝕機SI500進行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕
德國Sentech 等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500 產(chǎn)品信息

德國Sentech 等離子刻蝕機 ICP-RIE SI 500



低損傷刻蝕

由于離子能量低,離子能量分布帶寬窄,因此可以用我們的等離子體刻蝕機SI 500進行低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)的刻蝕。



自主研發(fā)的ICP等離子源

三螺旋平行板天線(PTSA)等離子源是SENTECH等離子體工藝設(shè)備的屬性。PTSA源能生成具有高離子密度和低離子能量的均勻等離子體。它具有高耦合效率和非常好的起輝性能,非常適用于加工各種材料和結(jié)構(gòu)。



高速刻蝕

對于具有高深寬比的高速硅基MEMS刻蝕,光滑的側(cè)壁可以通過室溫下氣體切換工藝或低溫工藝即可很容易地實現(xiàn)。



動態(tài)溫度控制

在等離子體刻蝕過程中,襯底溫度的設(shè)定和穩(wěn)定性對于實現(xiàn)高質(zhì)量蝕刻起著至關(guān)重要的作用。動態(tài)溫度控制的ICP襯底電極結(jié)合氦氣背冷和基板背面溫度傳感,可在-150°C至+400°C的廣泛溫度范圍內(nèi)提供了優(yōu)良的工藝條件。


SI 500為研發(fā)和生產(chǎn)提供*的電感耦合等離子體(ICP)工藝設(shè)備。它基于ICP等離子體源PTSA,動態(tài)溫度控制的襯底電極,全自動控制的真空系統(tǒng),使用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)的*的SETECH控制軟件和用于操作SI 500的用戶友好的通用接口。靈活性和模塊化是SI 500主要的設(shè)計特點。



SI 500 ICP等離子刻蝕機,可以用于加工各種各樣的襯底,從直徑高達200 mm的晶片到裝載在載片器上的零件。單晶片預(yù)真空室保證穩(wěn)定的工藝條件,并且切換工藝非常容易。



SI 500 ICP等離子刻蝕機,通過配置可用于刻蝕不同材料,包括但不于例如三五族化合物半導(dǎo)體(GaAs, InP, GaN, InSb),介質(zhì),石英,玻璃,硅和硅化合物(SiC, SiGe),還有金屬等。


ENTECH提供用戶不同級別的自動化程度,從真空片盒載片到一個工藝腔室到六個工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 500 ICP等離子刻蝕機也可用作多腔系統(tǒng)中的工藝模塊。


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