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Mattson刻蝕機Asher設備 Aspen 3 Lite

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公司名稱青島佳鼎分析儀器有限公司
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廠商性質(zhì)其他
更新時間2023/6/21 18:58:09
訪問次數(shù)300

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公司介紹主營產(chǎn)品

青島佳鼎實驗室，坐落于城之向陽地——城陽。自2011年成立之初，便誓將科技之光照耀四方。
十年的時間里，公司因擴展數(shù)度搬遷，最后選擇接受博士創(chuàng)業(yè)園的吸納并安家落戶。與此名交相輝映的是我們30余人的研發(fā)團隊，也是以博士后為主。這就為我們今后的發(fā)展奠定了堅實的基礎，使我們在未來的發(fā)展中，有底氣的大踏步前進。目前，佳鼎實驗室已經(jīng)形成了一站式服務，不僅有實驗室分析儀器設備的研發(fā)和銷售，更有實驗室的整體交付。做到了初時毛坯，再見時嚴謹整潔，隨時可以為人類健康貢獻自己的力量。
產(chǎn)品服務于各行各業(yè)，從科研機構(gòu)到環(huán)境、食品，從醫(yī)藥生物到電子電器。我們從不止步于國內(nèi)，放眼，我們聯(lián)合了包括美國賽默飛世爾、日本島津、在內(nèi)的多國實驗室，并且積累了大量的科研資料，在分析設備的研發(fā)領(lǐng)域做了大量的深度工作。
佳鼎實驗室堅信以質(zhì)量為生命，以客戶為中心的經(jīng)營理念，為打造實驗室建設規(guī)范化而不斷奮斗。

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產(chǎn)品簡介在線詢價

AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的專有ICP源設計，為半導體制造商提供經(jīng)過生產(chǎn)驗證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案

Mattson刻蝕機Asher設備 Aspen 3 Lite 產(chǎn)品信息

Aspen III 基于具有接地法拉第屏蔽的專有 ICP 源設計，為半導體制造商提供經(jīng)過生產(chǎn)驗證且具有成本效益的剝離和蝕刻解決方案。Aspen III 的平臺設計可處理 200 毫米和 300 毫米晶圓，并支持特殊晶圓處理，包括翹曲和半透明晶圓。的工藝室架構(gòu)可以滿足業(yè)內(nèi)的設備制造商跨多個技術(shù)節(jié)點的技術(shù)要求。

產(chǎn)品特點：

平臺
- 200 mm / 300 mm 橋接工具
- 玻璃/石英/半透明晶圓處理
- 翹曲 (> 5 mm) 晶圓處理
- 雙晶圓室設計，獨立晶圓控制
- 單或雙工藝室選項
- 高速機器人
- 真空負載鎖
- 安裝了 500 多個系統(tǒng)
ICP HT / Strip 處理室
- 專有法拉第屏蔽ICP源
- 還原和氟化學能力
- 耗材成本低
LiteEtch 工藝室
- 高濃度氟工藝的各向同性蝕刻
- 耐氟室設計
eHighlands 蝕刻和剝離工藝室
- 偏置能力
- 低溫（10°C 至 80°C）能力
- 低壓（5 mT 至 300 mT）能力