1.技術(shù)參數(shù)：
輸入電壓 | AC220V±10%，50Hz |
工作電壓 | DC2400V |
功率（主機(jī)與機(jī)械泵） | 500W |
| 工作原理 | 磁控濺射 |
可選靶材 | 金、鉑、銀、銅、鋁、鉛等常用金屬 |
真空泵 | 兩級直聯(lián)旋片式真空泵 1L/s |
真空腔 | φ128×130mm |
樣品杯 | φ90×1 / φ25×4 / φ15×6 |
整機(jī)尺寸（長×寬×高） | 424×271×255（mm） |
重量（主機(jī)） | 11 kg |
工作環(huán)境 | 溫度 5～40℃，濕度<60% |
存儲環(huán)境 | 溫度-10~60℃，濕度<80% |
工作氣體 | Air / Ar |
保護(hù)功能 | 過流、真空雙保護(hù) |
2.效果圖：
2.1 陶瓷濾膜鉑靶10萬倍（ SU5500 ）：
2.2 噴金樣品電鏡觀測圖對比
GVC-2200: 樣品形貌真實(shí)完整：
其他設(shè)備噴金的效果圖（熱損傷嚴(yán)重）：
