EDI超純水設備(二級反滲透+EDI+拋光混床)
原理及簡介：
凱旭超純水設備反滲透系統出水電導率≤2-5μs/cm(25℃)進入EDI系統， Electrodeionization 簡稱EDI是將電滲析膜分離技術與離子交換技術有機地結合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技術，它利用電滲析過程中的極化現象對填充在淡水室中的離子交換樹脂進行電化學ZS，再通過拋光混床系統達到電子級用水標準即電阻率≥18.2MΩ·cm(25℃)。
EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負電極組成。在直流電場的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構成的通道分別向負極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進入濃水室形成濃水。同時EDI進水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。電流使水電解產生的大量氫離子和氫氧根離子對離子交換樹脂進行連續(xù)的ZS。傳統的離子交換樹脂飽和后需要化學間歇ZS。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)ZS，工作是連續(xù)的，不需要酸堿化學ZS。
EDI超純水設備應用領域：
EDI超純水技術具有技術、操作簡便、是清潔生產技術，在微電子工業(yè)、電力工業(yè)、醫(yī)藥工業(yè)、化工工業(yè)和實驗室等領域得到日趨廣泛的應用。
新興的光電材料生產、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高，這也對超純水處理工藝及產品的簡易性、自動化程度、生產的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴格的要求。
超純水設備技術優(yōu)點：
EDI可代替?zhèn)鹘y的混合離子交換技術(MB-DI)生產穩(wěn)定的去離子水。EDI技術與混合離子交換技術相比有以下優(yōu)點:
1、離子交換樹脂的用量少，約相當于傳統離子交換法樹脂用量的5%。
2、離子交換樹脂不需酸，堿化學ZS，節(jié)約大量酸、堿和清洗用水，降低勞動強度。
3、無廢酸、廢堿液排放，是清潔的生產技術。
4、過程實現自動控制，產水水質穩(wěn)定，與RO等水處理技術相結合，能形成完善的純水、超純水生產線。
5、產水水質高，可達到國家電子級水I級標準，電阻率為18MΩ·cm。
6、純水生產過程連續(xù)進行，無需像離子交換床那樣一套在用一套ZS地重復設置。