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鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO MA 10/LS 10

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公司名稱北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司
品牌
型號
所在地
廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2023/9/17 9:05:15
訪問次數(shù)192

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公司介紹主營產(chǎn)品

北京歐波同光學(xué)技術(shù)有限公司，是一家具有外資背景的多元化的科技集團(tuán)公司，是實(shí)驗(yàn)室分析解決方案的！歐波同成立于2003年（總部位于香港），旗下?lián)碛袊H貿(mào)易、行業(yè)解決方案研發(fā)、第三方技術(shù)服務(wù)、融資租賃等業(yè)務(wù)板塊。公司經(jīng)過十多年的發(fā)展已經(jīng)與德國蔡司（ZEISS）公司、美國Gatan公司等多家國際品牌建立戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系，公司總營業(yè)額超6億，旗下員工200余人。

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產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVOMA10/LS10詳細(xì)描述：品牌：卡爾·蔡司型號：EVOMA10/LS10制造商：德國卡爾蔡司公司經(jīng)銷商：歐波同有限公司免費(fèi)：【品牌故事】世界可見光及電子光學(xué)的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO MA 10/LS 10 產(chǎn)品信息

鎢燈絲掃描電子顯微鏡EVO MA 10/LS 10

詳細(xì)描述：

品牌：卡爾·蔡司	型號：EVO MA 10/LS 10
制造商：德國卡爾蔡司公司	經(jīng)銷商：歐波同有限公司
免費(fèi)：

【品牌故事】

世界可見光及電子光學(xué)的企業(yè)——德國蔡司公司始創(chuàng)于1846年。其電子光學(xué)前身為LEO（里奧），更早叫Cambridge（劍橋）和Zeiss。積掃描電鏡領(lǐng)域40多年及透射電鏡領(lǐng)域60年的經(jīng)驗(yàn)，電子光學(xué)成像技術(shù)在世界上創(chuàng)造了數(shù)個(gè)里程碑：

-與AEG公司合作實(shí)現(xiàn)了透射電子顯微鏡的商業(yè)化（1949）
-陸續(xù)推出的EM9型電子顯微鏡是世界上具有自動(dòng)曝光控制的電磁式
-透射電子顯微鏡TEM（1956）
-推出EM902型配用Castaing-Henry過濾器商用電子顯微鏡，用戶利用
-該種新產(chǎn)品能夠得到高分辨率元素分布圖片（1984）
-配用靜電電磁物鏡（Gemini技術(shù)）的場發(fā)射掃描電子顯微鏡DSM982
-Gemini投放市場（1993）
-推出具有Koehler照明的200KV場發(fā)射透射電鏡（2003）
-推出具有鏡筒內(nèi)校正Omega能量濾波器的場發(fā)射透射電鏡（2003）

CARL ZEISS其前瞻性和完善的設(shè)計(jì)，融合歐洲至上的制造工藝，造就了該品牌在光電子領(lǐng)域的地位。自成立至今，一直延續(xù)不斷創(chuàng)新的傳統(tǒng)，公司擁有廣泛的專有技術(shù)，隨著離子束技術(shù)和基于電子束的分析技術(shù)的加入，可為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發(fā)射掃描電鏡、雙束顯微鏡（FIB and SEM）、透射電子顯微鏡等全系列解決方案。其產(chǎn)品的高性能、高質(zhì)量、高可靠性和穩(wěn)定性已得到世界范圍內(nèi)廣大用戶的信賴與認(rèn)可。

作為一家電子光學(xué)產(chǎn)品提供商，我們將為您提供完善的納米技術(shù)解決方案，并且以專業(yè)化的手段讓您的投資物有所值。無論您是企業(yè)還是科研機(jī)構(gòu)，卡爾蔡司在高質(zhì)量電子光學(xué)系統(tǒng)方面優(yōu)良的傳統(tǒng)都會為您的業(yè)績做出積極的貢獻(xiàn)。

【總體描述】
EVO系列電鏡是高性能、功能強(qiáng)大的高分辨應(yīng)用型掃描電子顯微鏡。MA 10用于材料領(lǐng)域,LS 10用于生命科學(xué)領(lǐng)域。該系列電鏡采用多接口的大樣品室和藝術(shù)級的物鏡設(shè)計(jì)，提供高低真空成像功能，可對各種材料表面作分析，并且具有業(yè)界的X射線分析技術(shù)。革命性的Beamsleeve的設(shè)計(jì)，確保在低電壓條件下提供高分辨率的銳利圖像，同時(shí)還可以進(jìn)行準(zhǔn)確的能譜分析。樣品臺為五軸全自動(dòng)控制。標(biāo)準(zhǔn)的高效率無油渦輪分子泵能夠滿足快速的樣品更換和無污染(免維護(hù))成像分析。

【技術(shù)參數(shù)】
    分辨率： 3.0nm@ 30KV(SE and W)  4.0nm@ 30KV(VP with BSD)
    加速電壓：0.2—30KV
    放大倍數(shù)：7—1000000x
    探針電流：0.5PA-5μA
    X-射線分析工作距離：8.5mm    35度接收角
    低真空壓力范圍：10—400Pa (LS10:10-3000Pa)
    工作室：310mm(φ)×220mm(h)
    5軸優(yōu)中心自動(dòng)樣品臺：X=80mm  Y=100mm  Z=35mm  T=-10°- 90°R=360°

    較大試樣高度：100mm，大試樣直徑：200mm
    系統(tǒng)控制：基于Windows 7 的SmartSEM操作系統(tǒng)
  存儲分辨率為32,000 x 24,000 pixels

【產(chǎn)品應(yīng)用】
掃描電鏡(SEM)廣泛地應(yīng)用于金屬材料(鋼鐵、冶金、有色、機(jī)械加工)和非金屬材料(化學(xué)、化工、石油、地質(zhì)礦物學(xué)、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維)等檢驗(yàn)和研究。在材料科學(xué)研究、金屬材料、陶瓷材料、半導(dǎo)體材料、化學(xué)材料等領(lǐng)域進(jìn)行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實(shí)時(shí)微區(qū)成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。

關(guān)鍵詞：掃描電子顯微鏡透射電子顯微鏡電子顯微鏡顯微鏡化學(xué)材料