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LED顯微曝光系統(tǒng) 分析電子顯微鏡

參考價(jià) 0.01
訂貨量 ≥1臺(tái)
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱(chēng)無(wú)錫浩輝者新材料科技有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號(hào)UTA系列
  • 所  在  地無(wú)錫市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間2023/11/29 11:25:27
  • 訪問(wèn)次數(shù)168
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  • 無(wú)錫浩輝者新材料科技有限公司依靠多年材料特性研究的經(jīng)驗(yàn)及對(duì)檢測(cè)設(shè)備及技術(shù)的研發(fā)與應(yīng)用,為客戶(hù)提供材料檢測(cè)分析儀器及方法。讓客戶(hù)深入了解全面的分析技術(shù),以及其性能限制,為客戶(hù)的分析需求選擇適合的分析儀器。與此同時(shí),我們會(huì)幫助輔導(dǎo)客戶(hù)完成整個(gè)分析過(guò)程,得到客戶(hù)所需要的答案及結(jié)果。也可依顧客需求,提供完整專(zhuān)業(yè)的系統(tǒng)解決方案。目前服務(wù)于各大專(zhuān)院校、研究機(jī)構(gòu)、產(chǎn)業(yè)界研發(fā)單位和具備自主研發(fā)能力的大型企業(yè),期望對(duì)國(guó)內(nèi)外的科研及產(chǎn)業(yè)盡一份心力。

  • 無(wú)錫浩輝者科技在過(guò)去服務(wù)對(duì)象中,成功建立了原位分析模式,如溫度、壓力與電位等之檢測(cè)分析平臺(tái),用以了解相關(guān)材料在實(shí)際應(yīng)用操作下的物理化學(xué)特性。包含掃描探針顯微鏡、光學(xué)顯微鏡用以進(jìn)行材料之表面型態(tài)以及表面物理特性分析;顯微三維掃描共軛焦拉曼光譜、顯微紅外光分析儀、X射線繞射儀用以進(jìn)行材料之鍵結(jié)型態(tài)、官能基型態(tài)以及晶體結(jié)構(gòu)狀態(tài)分析;X射線熒光分析儀用以進(jìn)行成分原素組成比例分析;熱重分析串接紅外光譜與氣相層析質(zhì)譜儀用以辨別化學(xué)結(jié)構(gòu)物質(zhì)之比例組成,透過(guò)不同溫度之熱裂解更可進(jìn)一步了解材料內(nèi)部之相關(guān)添加物質(zhì),并結(jié)合鍵結(jié)型態(tài)、官能基型態(tài)以及晶體結(jié)構(gòu)狀態(tài)可進(jìn)一步推廣至逆向工程檢測(cè)服務(wù)平臺(tái)。透過(guò)浩輝者科技的材料檢測(cè)分析與逆向工程分析儀器技術(shù)平臺(tái),可得知各種材料的完整物理化學(xué)特性,并建立完整的材料信息

    由于科技不斷的創(chuàng)新進(jìn)步,浩輝者也在積極地尋找并開(kāi)發(fā)*的光譜&影像關(guān)鍵技術(shù)及All-in-one多功能產(chǎn)品提供給顧客,公司所有同仁更努力不懈求創(chuàng)新、求進(jìn)步,期望能提供顧客優(yōu)質(zhì)的服務(wù)及質(zhì)量,并在未來(lái)與顧客共同成長(zhǎng)茁壯。

 

可攜式拉曼,顯微共軛焦拉曼,材料與生物影像分析系統(tǒng),材料應(yīng)力分析系統(tǒng),掃描探針近場(chǎng)光譜分析系統(tǒng),顯微曝光系統(tǒng),臨場(chǎng)分析變溫載臺(tái),光源,光譜儀與偵測(cè)器,納米材料專(zhuān)區(qū),實(shí)驗(yàn)室規(guī)劃,實(shí)驗(yàn)室代檢測(cè)服務(wù)
產(chǎn)地 進(jìn)口
介紹:
顯微鏡 LED曝光系統(tǒng) UTA系列,為不需使用光罩即可以完成Pattern曝光的投影式曝光設(shè)備。
使用金相顯微鏡和 LED 光源 DLP 光機(jī),即可在涂布光阻的基板上進(jìn)行數(shù)個(gè)微米 分辨率的曝光。
Pattern 形狀可以使用計(jì)算機(jī)繪圖自由制作。
可在一般環(huán)境操作,樣品外觀及尺寸限制小,價(jià)格比一般電子束曝光機(jī)更便宜、方便性更高,可以大幅降低研發(fā)成本。
LED顯微曝光系統(tǒng) 分析電子顯微鏡 產(chǎn)品信息

介紹:

1)顯微鏡 LED曝光系統(tǒng) UTA系列,為不需使用光罩即可以完成Pattern曝光的投影式曝光設(shè)備。 

2)使用金相顯微鏡和 LED 光源 DLP 光機(jī),即可在涂布光阻的基板上進(jìn)行數(shù)個(gè)微米 分辨率的曝光。 

3)Pattern 形狀可以使用計(jì)算機(jī)繪圖自由制作。 

4)可在一般環(huán)境操作,樣品外觀及尺寸限制小,價(jià)格比一般電子束曝光機(jī)更便宜、方便性更高,可以大幅降低研發(fā)成本。


特色:

1、使用顯微鏡和 DLP 組合之曝光系統(tǒng),可比既有系統(tǒng)擁有更具競(jìng)爭(zhēng)性之價(jià)格。 

2、軟件操作簡(jiǎn)便,可以自由繪制曝光Pattern。 

3、透過(guò)物鏡倍率選擇,調(diào)整曝光范圍大小與分辨率。

4、可以制造微米等級(jí)尺寸的 Pattern 。


使用案例:

√形成薄膜 FET 以及 Hole 效果量測(cè)用試料之電極。 

√Mo 原石取出薄片,形成原石特性評(píng)估的電極。




關(guān)鍵詞:顯微鏡 金相顯微鏡
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