一、應(yīng)用領(lǐng)域:
該設(shè)備可沉積金屬、合金、及多種介質(zhì)膜,可進行反應(yīng)濺射;用于硬質(zhì)膜,裝飾膜及其它功能膜的研究開發(fā)。
二、性能參數(shù):
1. Φ500x500立式水冷腔體,
2. 配DN100多弧靶3只,4″平面圓靶1只;
3. 平面靶配1000w射頻電源;系統(tǒng)可加偏壓,偏壓電源為脈沖直流,功率2000W;
4. 工藝加熱溫度500℃,
5. 樣品架公自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速0-50rpm可調(diào);
6. 系統(tǒng)配4路MFC工藝氣體。