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感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)（ICP）

參考價(jià)	￥10-￥280/臺(tái)

參考價(jià)

￥10-￥280/臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱北京中科復(fù)華科技有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)DISC-ICP-6
所在地北京市
廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間2025/4/25 17:05:10
訪問(wèn)次數(shù)712

產(chǎn)品標(biāo)簽:

感應(yīng)耦合等離子刻蝕等離子刻蝕 ICP

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公司介紹主營(yíng)產(chǎn)品

北京中科復(fù)華科技有限公司是一家致力于為半導(dǎo)體領(lǐng)域和微納米科學(xué)領(lǐng)域提供綜合性解決方案，為全國(guó)各大高校、科研院所及企事業(yè)單位提供的半導(dǎo)體設(shè)備儀器和微納米科學(xué)儀器，擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)過(guò)硬的技術(shù)團(tuán)隊(duì)。能夠出色地完成售前、售中、售后的服務(wù)。未來(lái)公司將不斷和引進(jìn)在微納米科學(xué)領(lǐng)域中起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品，同時(shí)也與全國(guó)各所的大學(xué)、學(xué)院和科研院所建立了良好的合作關(guān)系，致力于把具有市場(chǎng)前景的科研成果推向市場(chǎng)。愿與中、外同仁廣泛合作，為中國(guó)的教育與科研事業(yè)在廣范圍、高層次上提供服務(wù)。

展開(kāi)顯示更多內(nèi)容

電子束曝光系統(tǒng)，刻蝕設(shè)備，鍍膜設(shè)備，光刻機(jī)，半導(dǎo)體工藝設(shè)備

產(chǎn)品簡(jiǎn)介在線詢價(jià)

產(chǎn)地	國(guó)產(chǎn)

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕系統(tǒng)利用射頻天線，通過(guò)感應(yīng)耦合方式在放電腔中產(chǎn)生高密度等離子體，同時(shí)刻蝕工作臺(tái)引入射頻偏壓，射頻偏壓作用下，等離子體中垂直向下對(duì)被刻蝕材料表面進(jìn)行物理轟擊，并與材料表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，達(dá)到對(duì)樣品進(jìn)行刻蝕的目的。

　　本系統(tǒng)具有ICP和RIE兩種刻蝕功能，既可以進(jìn)行細(xì)線條(納米)加工，也可以進(jìn)行高深寬比的體加工?？煽涛g的材料主要有SiO2、Si3N4、多晶硅、硅、SiC、GaN、

感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機(jī)（ICP）產(chǎn)品信息

應(yīng)用方向：科研與教學(xué)

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：耐氯基強(qiáng)腐蝕氣體，帶雙片送取樣室（Load-Lock）

產(chǎn)品配置：

★樣片數(shù)量及尺寸：1片Ф6英寸

★刻蝕材料：包括并不限于GaN、GaAs、InP、Al、Cr、單晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、Mo、聚合物等。

★刻蝕腔體：高真空系統(tǒng)

★Load-Lock：低真空系統(tǒng) 或高真空系統(tǒng)。雙片裝，樣品自動(dòng)運(yùn)送。

★刻蝕不均勻性：±3%-±6%

★刻蝕速率：0.1-4μm/min（視具體材料與工藝）

★工作臺(tái)：可升降，包含水冷

★電源配置：上電射頻，下電偏壓，包含自動(dòng)匹配