鄭州科探儀器設備是高質(zhì)量定制物理 氣相沉積（PVD）系統(tǒng)的設計者和制造商，客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設計以滿足客戶的特殊要求。
鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質(zhì)量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。
儀器描述：
實驗室真空磁控濺射儀器，能夠在非導電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑?span style="-webkit-tap-highlight-color: transparent; -webkit-appearance: none; margin: 0px;">Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結(jié)果一致，可重復性高。
產(chǎn)品特點：
• 彩色觸摸屏：數(shù)據(jù)輸入簡單快速
• 通過觸摸屏中直觀檢測數(shù)據(jù)和曲線；歷史頁面可顯示歷史涂層信息。
• 可控鍍膜速率，可得到更精細的晶粒結(jié)構(gòu)
• 可手動或自動，根據(jù)時間或根據(jù)厚度進行濺射
• 樣品臺更換簡單：標準旋轉(zhuǎn)樣品臺或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺。標準樣品臺高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn)；行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。
實驗室真空磁控濺射儀器技術(shù)參數(shù)；
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
