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廣電計(jì)量檢測集團(tuán)股份有限公司

真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/4/28 9:14:47
  • 訪問次數(shù)115
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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鄭州科探儀器設(shè)備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料創(chuàng)新型企業(yè),如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內(nèi)大多數(shù)實(shí)驗(yàn)室 及*校,科探儀器已經(jīng)成為老師 同學(xué)歡迎和信任的品牌之一公司以科技創(chuàng)新為主,服務(wù)社會為宗旨,積極設(shè)計(jì)開發(fā)新型材料制備設(shè)備,奉獻(xiàn)于教育和科學(xué),經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術(shù)積累,擁有熱工,制造,控制相關(guān)技術(shù)10余項(xiàng),為化學(xué),物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發(fā)領(lǐng)域的科學(xué)研究提供了精良設(shè)備。公司通過和院校老師 同學(xué)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合,形成了有效的信息,技術(shù)交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強(qiáng)有力的支持!。目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個(gè)系列幾十款產(chǎn)品,產(chǎn)品囊括實(shí)驗(yàn)電爐、CVD供氣系統(tǒng)、等離子清洗機(jī)、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領(lǐng)域物理特性及化學(xué)特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。公司與國內(nèi)高校,科研院所有多層次的合作關(guān)系,建有開放實(shí)驗(yàn)室,相關(guān)領(lǐng)域的教授、高級工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。我們秉承公司的發(fā)展理念,依靠嚴(yán)謹(jǐn)?shù)募夹g(shù)研發(fā)能力,科學(xué)合理的生產(chǎn)工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)工作,科探儀器時(shí)刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。
溫度控制儀
真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī)膜厚監(jiān)測鍍膜機(jī)鄭州科探KT-Z1650PVD,能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動控制,設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。
真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

鄭州科探儀器設(shè)備是高質(zhì)量定制物理 氣相沉積(PVD)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)者和制造商,客戶服務(wù)和售后服務(wù)出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術(shù)經(jīng)驗(yàn)。其研發(fā)團(tuán)隊(duì)在學(xué)界科學(xué)家和工程師的支持下,高度積極地開發(fā)新設(shè)計(jì)以滿足客戶的特殊要求。

   鄭科探的工程團(tuán)隊(duì)設(shè)計(jì)和制造的組件符合高質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。KT-Z1650PVD真空鍍膜機(jī)已通過分銷商銷往許多大學(xué)和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述:

真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī),能夠在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑?span style="-webkit-tap-highlight-color: transparent; -webkit-appearance: none; margin: 0px;">Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時(shí)間內(nèi)即可形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結(jié)構(gòu)緊湊,全自動控制,設(shè)計(jì)符合人體工程學(xué),所得結(jié)果一致,可重復(fù)性高。


    產(chǎn)品特點(diǎn):

    彩色觸摸屏:數(shù)據(jù)輸入簡單快速

    • 通過觸摸屏中直觀檢測數(shù)據(jù)和曲線;歷史頁面可顯示歷史涂層信息。

    • 可控鍍膜速率,可得到更精細(xì)的晶粒結(jié)構(gòu)

    • 可手動或自動,根據(jù)時(shí)間或根據(jù)厚度進(jìn)行濺射

• 樣品臺更換簡單:標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)樣品臺或選用行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺。標(biāo)準(zhǔn)樣品臺高度可調(diào)、可傾斜、可旋轉(zhuǎn);行星式旋轉(zhuǎn)樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。

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真空濺射金屬磁控鍍膜機(jī)技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口













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