大功率濺射儀,桌面式設(shè)計(jì),觸摸屏控制,石英+不銹鋼腔體,濺射距離可調(diào),自動電動擋板可保護(hù)樣品和清洗靶材。
離子鍍膜技術(shù)是PVD技術(shù)的一種,是指在PVD沉積過程中,被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體(如Ti離子,N離子),等離子體在偏壓電場的作用下,沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中,離子的能量更強(qiáng),離子繞射性更好,膜層的結(jié)合力更好,膜層致密性也更好,膜層性能更好。
離子鍍膜技術(shù)的應(yīng)用非常廣泛,常見的有:裝飾性鍍膜,工具模具硬質(zhì)鍍膜以及各種功能膜層。
大功率濺射儀技術(shù)參數(shù);
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |