高溫蒸鍍儀,KT-Z1650CVD,石英+不銹鋼腔體,觸摸屏控制,工藝儲存功能,自動電控?fù)醢灞Wo(hù)樣品
在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續(xù)的。通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達(dá)到電流密度,使得它具有足夠的溫度來引起蒸發(fā)。基于這點,出現(xiàn)了細(xì)小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統(tǒng)需要用擴(kuò)散泵或渦輪分子泵達(dá)到1x10-4 mbar或更高的真空度。
渦輪分子泵在K950X中作為標(biāo)準(zhǔn)配置,此泵作為機(jī)械真空泵的后級泵,真空為全自動控制,真空度優(yōu)于1x10-5 mbar??蛇M(jìn)行預(yù)熱及除氣控制,同時用瞬時蒸發(fā)開關(guān)使脈沖蒸發(fā)在用戶控制下進(jìn)行。
標(biāo)準(zhǔn)的旋轉(zhuǎn)樣品臺可進(jìn)行傾斜調(diào)節(jié),非常容易適應(yīng)各種樣品座。
以下是不同真空度 不同鍍膜時間鍍銅樣品圖
原樣品沒有鍍膜 115A 100秒 機(jī)械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
高溫蒸鍍儀KT-Z1650CVD
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制 |
加熱方式 | 數(shù)字式功率調(diào)整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1200W |
輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調(diào)節(jié)距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調(diào)節(jié) | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類型 | 鎢絲藍(lán) 帶坩堝鎢絲藍(lán) 鎢舟 碳繩 |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴(kuò)展 | 機(jī)械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa) 數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa) 分子泵機(jī)組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa) |