產(chǎn)品介紹
Norcada 碳化硅膜為電子、X 射線和光學顯微鏡提供了堅固的導電基板。SiC是一種具有高導熱性和導電性的導電晶體材料，為元素分析提供了無氮環(huán)境。SiC膜可用作原位電化學和氣體電池的基板，以及薄膜外延生長的基板。這些的膜還可以用作X射線光學器件，光子晶體，量子諧振器和MEMS結構的基礎。SiC 還可用作 X 射線光學器件、X 射線束出入口窗口、探測器窗口和 X 射線終端站的透射窗口。請聯(lián)系Norcada以獲取有關SiC傳輸窗口的更多信息，因為某些單元的設計和組成可能需要更改。
性能特點
- 用于薄膜和生物材料的EDX元素分析和X射線光譜的無氮底物
- 高導熱性
- 低電阻率硅框架，增加電荷和散熱
技術參數(shù)
- 產(chǎn)地：加拿大
- 厚度:50nm
- 薄膜尺寸：0.50×0.50mm
- 孔徑：2.0µm
- 孔間距：3.0µm
- 是否進口：是
- 應用：廣泛
- 封裝：廠家制定
- 性能：良好
- 可靠性：高
產(chǎn)品參數(shù)
