高純水設(shè)備
高純水設(shè)備是指將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的設(shè)備。電阻率大于10~18.3MΩ*cm極限值。超純水，是一般純水設(shè)備很難達(dá)到的程度，通常采用工業(yè)用高純水設(shè)備通過預(yù)處理、反滲透技術(shù)、高純化處理以及后級處理四大步驟，多級過濾、高性能離子交換(拋光)、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達(dá)18.25MΩ*cm。
工藝流程
電子行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種:
1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→精密過濾器→陽床→陰床→混床(復(fù)床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為:原水→沙炭過濾器→軟水器-精密過濾器→反滲透設(shè)備→純水箱→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置精密過濾器→用水點
3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に嚕浠竟に嚵鞒虨?原水→沙炭過濾器→軟水器-精密過濾器→反滲透設(shè)備→純水箱→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→拋光混床-紫外線殺菌器-終端精密過濾器→用水點
工藝比較
目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進(jìn)行不同組合搭配衍生而來。現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面:
1、種采用離子交換樹脂其優(yōu)點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經(jīng)常進(jìn)行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環(huán)境有一定的破壞。
2、第二種采用反滲透作為預(yù)處理再配上離子交換設(shè)備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設(shè)備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。
3、第三種采用反滲透作預(yù)處理再配上電去離子(EDI)裝置，這是目前制取超純水，用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進(jìn)行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴，但在后期生產(chǎn)運行中具有費用低、性能穩(wěn)定、操作方便等優(yōu)勢。
