SU-8是一種高分辨率的負(fù)性光刻膠，擁有的機(jī)械、介電、耐化學(xué)性和熱性能，以及出色的生物相容性。在微流控領(lǐng)域，常用來做制備PDMS微流控芯片的模具。

SU-8制備的模具具備以下優(yōu)勢(shì)：

1、高分辨率和精度：SU-8是高分辨率的光刻膠，使用光刻工藝，可以制備復(fù)雜且精細(xì)的微通道幾何形狀，從而形成清晰的微流體結(jié)構(gòu)。

2、強(qiáng)韌耐用：SU-8模具具備強(qiáng)韌性和耐久性，能夠經(jīng)受住反復(fù)使用、清洗和處理，不會(huì)明顯退化，適合多次澆筑PDMS芯片。

3、SU-8模具，使用光刻工藝，可以在SU8光刻膠制備的PDMS芯片模具上制造線條寬度大于2微米，并且實(shí)現(xiàn)深寬比在1:1至2:1的結(jié)構(gòu)。此外，借助多層光刻技術(shù)，還可以在SU-8模具上創(chuàng)建不同高度的微流道結(jié)構(gòu)。

SU8模具加工設(shè)備

詳情請(qǐng)點(diǎn)擊SU8加工設(shè)備了解。

SU8模具制備流程

一、備片

從化學(xué)品存放區(qū)取出清潔的硅片（確保硅片表面無塵）。

二、勻膠

1）打開勻膠機(jī)，將硅片放置在勻膠機(jī)托盤上，打開真空開關(guān)，確保硅片固定在托盤上不動(dòng)；

2）將SU8光刻膠滴在硅片中間，根據(jù)光刻膠的厚度和制備要求設(shè)置勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速和時(shí)間。（舉例說明：目標(biāo)膠厚度50um,光刻膠型號(hào)：SU8-2075，1段500轉(zhuǎn)8s，2段1800轉(zhuǎn)30s）

三、前烘

1）將涂布好SU8光刻膠的硅片放置在熱板上，進(jìn)行預(yù)熱烘烤，去除光刻膠中的揮發(fā)性有機(jī)溶劑，時(shí)間和溫度根據(jù)光刻膠厚度進(jìn)行調(diào)整。（舉例說明：目標(biāo)膠厚度50um ，設(shè)置溫度65℃，烘烤15min，然后溫度95度，烘烤15分鐘）

四、曝光

1）將預(yù)熱后的硅片放置在桌面光刻機(jī)托盤上。

2）使用相應(yīng)的掩模（掩膜）放置在硅片上進(jìn)行曝光，曝光時(shí)間和強(qiáng)度根據(jù)SU-8光刻膠的類型和厚度進(jìn)行調(diào)整。（舉例說明：目標(biāo)膠厚度50um，設(shè)置曝光能量25mw/cm²，時(shí)間12s）

五、后烘

將曝光后的硅片放置在熱板上，進(jìn)行后曝光烘烤，以確保光刻膠的交聯(lián)反應(yīng)完成。（舉例說明：目標(biāo)膠厚度50um，設(shè)置溫度65℃，烘烤7min，然后溫度95℃，烘烤3min）

六、顯影

將硅片放入顯影劑中，使未曝光部分的光刻膠溶解，形成模具的圖案。（顯影時(shí)間根據(jù)光刻膠厚度和顯影劑濃度進(jìn)行調(diào)整,此處顯影時(shí)間20min）

七、清洗

將顯影后的硅片用異丙醇溶劑進(jìn)行清洗，去除多余的光刻膠。

八、檢查

使用顯微鏡檢查制備的SU-8模具，測(cè)試觀察制備的微結(jié)構(gòu)尺寸，確認(rèn)圖案的清晰度和質(zhì)量。

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