硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設備背景
納米壓印技術的生產(chǎn)采用物理接觸的方式進行圖形轉移，這種方法能達到很高的分辨率，最小分辨率小于5納米。子版可以反復使用，大大降低了生產(chǎn)成本，也有效提高了生產(chǎn)效率。納米壓印技術作為很有希望的下一代光刻技術,具有成本低,重復性好,可控性強等一系列優(yōu)點,逐漸被應用于微細加工的各個領域。 由于壓印是在微結構上完成的,因此摩擦力以及隨之而產(chǎn)生的脫模成為影響壓印質量的一個關鍵問題。
脫模
脫模，顧名思義就是將晶圓從子版中脫離下來。脫模后，就將完整的光柵結構留在了晶圓上面。
采用辛基三氯硅烷對納米壓印技術中所用模板進行表面修飾，用氣相法在模板表面形成單分子膜的形成過程及化學機理,通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現(xiàn)結構較好的轉移,復制.
硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統(tǒng) 納米抗粘設備核心組件
氣路系統(tǒng)：N2、硅烷與其他反應氣體輸送。
反應腔室：耐高溫、耐腐蝕材料制成，配備加熱器。
真空系統(tǒng)：維持低氣壓環(huán)境，可達1Torr以下。
尾氣處理裝置：處理未反應的硅烷（因硅烷易燃易爆，需通過燃燒或吸附中和）。
控制系統(tǒng)：人機界面，監(jiān)控溫度、壓力、氣體流量等參數(shù)。
溫控系統(tǒng)：RT-200℃高精度日制溫控器+RSS回路，防超溫保護裝置
安全系統(tǒng)：集成自動硅烷加注系統(tǒng)和微電腦控溫模塊，實現(xiàn)真空抽排、氮氣置換、溫度控制的全流程自動化?。一鍵式操作界面支持多組程序存儲，滿足2英寸至12英寸晶圓的差異化處理需求?。
抗粘劑蒸鍍系統(tǒng)應用領域
半導體制造：沉積介電層（如SiO?、SiN?）、鈍化層或隔離層。
光伏產(chǎn)業(yè)：制備非晶硅/微晶硅薄膜太陽能電池的吸收層或鈍化層。
顯示技術：用于TFT-LCD或OLED顯示屏中薄膜晶體管（TFT）的絕緣層或鈍化膜。
MEMS器件：構建微機電系統(tǒng)的結構層或保護層
納米壓?。好撃┕柰槌练e
生物芯片：硅烷增粘劑沉積
新材料：納米陶瓷材料、多孔碳復合材料表面修飾
光學玻璃：硅烷增粘劑沉積
半導體設備廠商上海雋思儀器，硅烷氣相沉積設備包含增粘劑硅烷(HMDS等）、抗黏劑硅烷沉積、脫模劑硅烷（PFTS）沉積、表面改性修飾硅烷處理等，精密熱板、HMDS預處理系統(tǒng)烘箱、智能型HMDS真空預處理系統(tǒng)烘箱、MSD超低濕烘箱、無塵烘箱、潔凈烘箱，氮氣烘箱、無氧烘箱、無塵無氧烘箱、真空烘箱、真空儲存柜、超低溫試驗箱、超低濕試驗箱等環(huán)境可靠性設備。
