適合SEM（掃描電鏡）、FE-SEM（場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡）、TEM（透射電鏡）。
EMS300R T 與EMS150R T相似，明顯區(qū)別是EMS300R T腔室足夠大，達(dá)到203mm，采用旋轉(zhuǎn)真空泵抽真空；此外，它配備三個(gè)獨(dú)立的濺射頭，確保靶材粒子在大樣本上的沉積效果。適合濺射不易氧化的貴金屬如金、金/鈀、鉑等。（注意：既能濺射不易氧化金屬，又能濺射易氧化金屬，另見(jiàn)EMS300T T） 。
特征參數(shù)
1、 可以進(jìn)行超大樣本（直徑至203mm）的金屬鍍膜
2、 三個(gè)濺射頭確保濺射沉積質(zhì)量
3、 單靶材選擇功能，可以進(jìn)行小樣本鍍膜
4、 多種金屬靶材比如金、金/鈀、鉑等可選
5、 選擇裝配膜厚監(jiān)測(cè)儀可以精確控制膜厚
6、 全自動(dòng)觸摸屏控制，快速數(shù)字輸入，操作簡(jiǎn)便
7、 可以?xún)?chǔ)存不同用戶(hù)的程序
8、 能夠記錄100個(gè)鍍膜細(xì)節(jié)
9、 真空自動(dòng)控制，且具有真空保持功能
10、 落入式樣品臺(tái)拆裝方便（標(biāo)配是旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)）
11、 zui長(zhǎng)60分鐘不間斷鍍膜能力
12、 符合人體工程學(xué)的整體注塑機(jī)身
13、 電氣符合CE要求
14、 三年質(zhì)保
樣品臺(tái)
EMS300R T有多種型號(hào)的樣品臺(tái)可以選擇，用于滿(mǎn)足目前大部分需求。落入式設(shè)計(jì)使得不同型號(hào)的樣品臺(tái)之間更換簡(jiǎn)便，樣品臺(tái)除了行星臺(tái)外其高度均可調(diào)，旋轉(zhuǎn)速度在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)可調(diào)。
- 扁平樣品臺(tái)，用于晶圓的鍍膜（152mm-203mm），標(biāo)配
- 旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，50mm，不能傾斜
- 旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)，50mm，高度可調(diào)（靶材與樣本之間的距離在30-80mm之間可調(diào)），傾斜角度在0-30度之間
- 用于撥片的旋轉(zhuǎn)臺(tái)
加高腔室：需要時(shí)可以得到（付費(fèi)）
儀器參數(shù)：
| 儀器外形尺寸 | 585mm W x 470mm D x 410mm H （total height with coating head open: 650mm） |
| 重量 | 36.4kg |
| 包裝尺寸 | 725mm W x 660mm D x 680mm H （44.8kg） |
| 工作腔室 | 高硼硅玻璃283mm ID x 127mm H |
| 安全保護(hù) | 整體PET套筒 |
| 顯示 | 145mm x 320mm x 240mm TFT彩顯 |
| 使用者界面 | 直觀的圖形界面，觸摸鍵。記憶功能：維護(hù)提醒及zui后100個(gè)鍍膜方案日志記錄 |
| 濺射靶材 | 標(biāo)配三個(gè)57 mm Ø x 0.1 mm金靶 （SC502-314A） |
真空
| 旋轉(zhuǎn)真空泵 | 50L/m two-stage rotary pump with oil mist filter. Order separay, 91005. |
| 真空監(jiān)測(cè) | 皮拉尼測(cè)量 |
| 極限真空度 | 潔凈系統(tǒng)可達(dá) 2x10-2 mbar，充氮?dú)?/div> |
| 樣品臺(tái) | 標(biāo)配晶圓樣品臺(tái)，152mm-203mm，旋轉(zhuǎn)速度可調(diào)。 |
| 濺射 | 根據(jù)鍍膜厚度或內(nèi)置的計(jì)時(shí)器，濺射電流范圍在0-80mA ，zui長(zhǎng)濺射時(shí)間不超過(guò)60分鐘 |
其它重要信息
| 需要?dú)怏w | 氬氣 99.999%，氮?dú)饪蛇x（排氣時(shí)需要） |
| 電源 | 90-250V 50/60Hz 1,400VA including RV3 rotary pump power. （注意電壓的選擇） |
| 電氣標(biāo)準(zhǔn) | 符合電氣CE認(rèn)證要求 |
訂購(gòu)信息：
| 貨號(hào) | 產(chǎn)品 | 規(guī)格 |
| EMS300R T | EMS300R T 大樣品離子濺射鍍膜儀Large-Chamber-Rotary-Pumped Sputter Coater, fitted with three sputtering heads to ensure even metaldeposition. Include three 57mm Ø x 0.3mm gold （Au） sputter targets. A flat rotation stage for 8”/203 mm/and 6”/152 mm wafers is fitted as standard | EACH |
| 91005 | 愛(ài)德華旋轉(zhuǎn)真空泵（單獨(dú)購(gòu)買(mǎi)）Edwards RV5 90L/s two-stage rotary pump, with vacuum hose, coupling kit and oil mist filter | EACH |
