利方達(dá)(香港)有限公司于2002年創(chuàng)建。公司目前集中了一批多年從事真空鍍膜專業(yè)的技術(shù)人員和經(jīng)驗(yàn)豐富的市場銷售人員,現(xiàn)已經(jīng)發(fā)展成為由利方達(dá)(香港)有限公司,深圳市利方達(dá)科技有限公司,利方達(dá)科技北京辦事處組成的,集真空產(chǎn)品研發(fā),生產(chǎn)及貿(mào)易以及維修服務(wù)為一體的企業(yè)集團(tuán) 。 我們的業(yè)務(wù)專長于真空及鍍膜設(shè)備領(lǐng)域的代理銷售業(yè)務(wù),致力于把世界上*的技術(shù)和設(shè)備引進(jìn)中國.憑借多年的真空專業(yè)技術(shù)積累, 雄厚的技術(shù)力量和真誠的服務(wù), 我們得到了業(yè)界的眾口稱贊,擁有了大量的客戶群體, 產(chǎn)品廣泛用于真空,光學(xué)、電子、半導(dǎo)體、平板顯示等相關(guān)領(lǐng)域.
射頻電源、中頻電源、直流電源,氣體質(zhì)量流量計(jì)、質(zhì)量流量控制器,光學(xué)膜厚控制儀,殘余氣體分析儀
Angstrom Sciences濺射陰極及靶材 產(chǎn)品信息
Angstrom Sciences濺射陰極及靶材
美國安斯超科學(xué)公司(Angstrom Sciences,Inc)成立于1988年, 是一家專業(yè)從事物理氣相沉積磁控濺射陰極及濺射靶材的高科技專業(yè)公司。的磁場設(shè)計(jì)和*的水冷技術(shù)使其產(chǎn)品倍受歡迎。產(chǎn)品主要應(yīng)用真空鍍膜的各種領(lǐng)域:航天航空,汽車,微電子,光源,光學(xué),裝飾,顯示器,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等。
安斯超公司對磁控濺射靶陰極的磁體外形和冷卻循環(huán)結(jié)構(gòu)進(jìn)行了科學(xué)合理地優(yōu)化設(shè)計(jì),并且選取更強(qiáng)的磁體(比稀土磁體強(qiáng)30%),從而使安斯超的靶陰極比常規(guī)的靶陰有更為的性能。
核心技術(shù)及特點(diǎn):
1. 特殊設(shè)計(jì)的磁體結(jié)構(gòu),使得磁場線跨度范圍更寬,從而提高靶材的利用率和膜層的均勻性
2. 湍流冷卻技術(shù),使得水流能夠更平緩的進(jìn)入陰極,從而提高冷卻效果
3. 特殊設(shè)計(jì)的耙材固定結(jié)構(gòu),使得耙材更換起來更簡單,降低停工期
4. *的磁體材料 NdFeB,他的強(qiáng)度比其他的稀土磁體要強(qiáng)30%
優(yōu)勢
> *的產(chǎn)品均勻性,zui高可以達(dá)到±3%
> 可以在更低的真空以及更高的功率下運(yùn)行:zui低壓力可以達(dá)到10-4TOR
> 我們的直接水冷結(jié)構(gòu)可以提高其功率密度達(dá)到250Watt s/in2
> 提高沉積速率
> 高標(biāo)準(zhǔn)高效率
濺射靶陰極翻新
安斯超提供舊的靶陰極翻新服務(wù),使您的靶陰有安斯超*的技術(shù),滿足您的工藝要求。特別有利于大面積沉積鍍膜行業(yè)。
我們可以根據(jù)客戶現(xiàn)有陰極的狀況,分析現(xiàn)有的問題,提供切實(shí)可行的解決辦法,使得他們現(xiàn)有的陰極也會(huì)擁有Angstrom陰極的特點(diǎn),更高的利用率,更好的均勻性,更高的功率密度等特點(diǎn)。
我們一直致力于為世界上企業(yè)提供全新陰極及陰極翻新的工作。他們是:BOCCT,IVT,LEYBOLD,Materials Science,MRC,Perkin Elmer,Sloan,Ulvac,VAC-TEK,Varian,Veeco,Denton Vacuum,in,Fairchild Semiconductor等。
圓形磁控濺射陰極
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