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臭氧設(shè)備空間穩(wěn)步增長,產(chǎn)品性能提升,新領(lǐng)域拓展未來可期

2022-12-21 10:21:29來源:財(cái)聞網(wǎng) 關(guān)鍵詞:臭氧發(fā)生器污廢水處理閱讀量:16850

導(dǎo)讀:隨著臭氧產(chǎn)品性能提升,下游應(yīng)用持續(xù)擴(kuò)張,包括紙漿漂白臭氧發(fā)生器應(yīng)用系統(tǒng)、半導(dǎo)體級(jí)高濃度臭氧水系統(tǒng)、光伏級(jí)高濃度臭氧水系統(tǒng)、電子級(jí)超純臭氧氣體發(fā)生器、家用臭氧水機(jī)等,新領(lǐng)域拓展值得期待。
  大型臭氧發(fā)生器技術(shù)門檻高,核心競爭者有限。大型臭氧發(fā)生器對(duì)臭氧產(chǎn)生效率、設(shè)備穩(wěn)定性、功耗等要求更高,存在較高技術(shù)壁壘。隨著市政給水、市政污水處理、工業(yè)廢水處理和煙氣脫硝等行業(yè)的發(fā)展,單臺(tái) 10kg/h 以上的大型臭氧發(fā)生器成為主流型號(hào)。
 
  根據(jù)測算,臭氧發(fā)生器傳統(tǒng)四大行業(yè)2021-2025年市場空間CAGR可達(dá) 13%,2025 年市場空間可達(dá) 24.5 億元,其中,市政給水、市政污水、工業(yè)廢水、煙氣治理 2021-2025 年市場空間 CAGR 分別為 21%、18%、8%、10%。
 
  隨著臭氧產(chǎn)品性能提升,下游應(yīng)用持續(xù)擴(kuò)張,包括紙漿漂白臭氧發(fā)生器應(yīng)用系統(tǒng)、半導(dǎo)體級(jí)高濃度臭氧水系統(tǒng)、光伏級(jí)高濃度臭氧水系統(tǒng)、電子級(jí)超純臭氧氣體發(fā)生、家用臭氧水機(jī)等,新領(lǐng)域拓展值得期待。
 
  飲用水新標(biāo)落地,深度處理需求擴(kuò)張
 
  為增強(qiáng)水資源承載能力與經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的適應(yīng)性,2021 年 12 月水利部印發(fā)《關(guān)于實(shí)施國家水網(wǎng)重大工程的指導(dǎo)意見》,要求進(jìn)一步提高城鄉(xiāng)供水保障水平。根據(jù)國家統(tǒng)計(jì)局?jǐn)?shù)據(jù),2020 年全國供水能力為 1170.65 億立方米,預(yù)計(jì)“十四五”期間供水能力將在此基礎(chǔ)上提高 290 億立方米,2021-2025 年供水量 CAGR 約為 3.8%。
 
  新版飲用水標(biāo)準(zhǔn)即將落地,深度處理需求增長。為推動(dòng)供水高質(zhì)量發(fā)展,新修訂的《生活飲用水衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)》(GB5749-2022)于 2022 年 3 月發(fā)布,并將于 2023 年 4 月正式實(shí)施。新標(biāo)取消了在水源或凈水條件限制時(shí)部分指標(biāo)限值的放寬,提高了水中游離氯余量及消毒副產(chǎn)物的指標(biāo)限值。
 
  2019年全國298家自來水廠的采樣調(diào)研結(jié)果顯示,34%水廠原水為 III-IV水,原水耗氧量較高,必須采用深度處理技術(shù)才能滿足水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的要求。而2019年調(diào)研中298個(gè)水廠深度處理率僅為17.8%,市政給水領(lǐng)域深度處理需求量仍存在較大的增長空間。
 
  在市政給水領(lǐng)域,臭氧活性炭工藝和膜工藝是主要的深度處理工藝,2019 年臭氧活性炭工藝占深度處理工藝的 67.9%。膜工藝占 28.3%。相較膜工藝,臭氧活性炭工藝對(duì)高耗氧量原水優(yōu)勢突出,除難降解有機(jī)物能力高,可除重金屬離子;而膜工藝在去除懸浮物、降低濁度等方面效果更佳。
 
  在投資和運(yùn)行成本上,臭氧活性炭工業(yè)主要投資為設(shè)備成本和臭氧接觸池建設(shè),處理成本主要包括電費(fèi)、維護(hù)費(fèi)用和液氧費(fèi)用;膜工藝主要投資為膜材料和相關(guān)建筑物,處理成本主要包括維護(hù)費(fèi)用、膜更換費(fèi)用,廢棄物處置費(fèi)用等;其中納濾膜深度處理效果較超濾更好,但其加壓過濾工藝會(huì)帶來較高的電費(fèi)支出,過濾產(chǎn)生的濃水也會(huì)增加處理成本。
 
  綜合來講,臭氧活性炭工藝和膜工藝存在處理效果差異,需根據(jù)原水水質(zhì)等條件選擇。政給水領(lǐng)域臭氧發(fā)生器品質(zhì)要求較高,以國外和國內(nèi)龍頭企業(yè)競爭為主,競爭格局較好,臭氧設(shè)備價(jià)格較高。
 
  參考國林科技給水工程中配套臭氧設(shè)備規(guī)模,設(shè)備單價(jià),按照設(shè)備使用年限10年,2021-2025 年,深度處理比例每年提升約 5pct,臭氧工藝占比每年提升約1pct 進(jìn)行測算,預(yù)計(jì)2022-2025年市政給水領(lǐng)域臭氧設(shè)備市場空間為3.1/3.6/4.1/4.7億元,同比增速40.0%/16.0%/14.8%/13.8%。
 
  污水廢水處理,臭氧工藝優(yōu)勢體現(xiàn)
 
  2021 年,國家發(fā)改委、住建部印發(fā)《“十四五”城鎮(zhèn)污水處理及資源化利用發(fā)展規(guī)劃》,要求縣城污水處理率達(dá)到 95%以上,污水收集處理及資源化利用能力水平得到全面提升。
 
  污水資源化利用要求提高,深度處理率有望增長。“十四五”規(guī)劃要求,全國地級(jí)及以上缺水城市再生水利用率達(dá)到 25%以上,污水處理要滿足回用的基本要求,就必須達(dá)到一級(jí) A 及以上排放標(biāo)準(zhǔn),因此設(shè)置深度處理環(huán)節(jié)至關(guān)重要。到 2025 年,預(yù)期城市污水深度處理率可達(dá)到 95%水平。
 
  技術(shù)替代驅(qū)動(dòng)力強(qiáng),臭氧工藝除難降解有機(jī)物效果好。深度處理環(huán)節(jié)常見技術(shù)包括高級(jí)氧化法、生物法、物化法等,其中物化法包括絮凝沉淀等,可將污水中顆粒態(tài)和部分膠體態(tài)以沉淀污泥的形式加以去除和回收,其提升改造成本低,但對(duì)溶解態(tài) COD 去除能力有限;生物法主要采用生物膜法,基建和運(yùn)維成本小,生物降解效果較好,但是產(chǎn)生大量污泥會(huì)增加處理成本。
 
  值得注意的是,隨著經(jīng)濟(jì)社會(huì)的進(jìn)步,市政污水中難降解有機(jī)物包括持久性有機(jī)污染物成為去除的難點(diǎn),而高級(jí)氧化法除難降解有機(jī)物能力強(qiáng),受到廣泛選擇。
 
  在高級(jí)氧化法中,化學(xué)氧化法需要較高的化學(xué)試劑投入,操作較復(fù)雜;臭氧氧化法具有顯著優(yōu)勢,如自動(dòng)化程度高,抗沖擊負(fù)荷性能好,無污泥產(chǎn)生。將臭氧氧化與生物膜、超濾等工藝聯(lián)合應(yīng)用的耦合工藝,將是市政污水領(lǐng)域未來發(fā)展的重要方向之一。
 
  近年來,市政污水領(lǐng)域臭氧發(fā)生器已基本實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)替代,隨著競爭的激烈,臭氧設(shè)備單價(jià)有所下降。污水處理中,臭氧投加量與生活污水和工業(yè)廢水比例關(guān)系較大,可在 3-25mg/L 范圍內(nèi)變化,且隨著水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)要求的嚴(yán)格有所提升,故臭氧設(shè)備選型較大。參考國林科技市政污水工程中配套臭氧設(shè)備規(guī)模,設(shè)備單價(jià),按照設(shè)備使用年限 6~7年,到2025年深度處理占比達(dá)到95%。
 
  此外,2020 年中國萬元工業(yè)增加值用水量 32.9噸,《工業(yè)水效提升行動(dòng)計(jì)劃》提出到 2025 年萬元工業(yè)增加值用水量較 2020 年下降 16%,工業(yè)領(lǐng)域節(jié)水持續(xù)推進(jìn)。考慮全部工業(yè)增加值的穩(wěn)定增長,預(yù)計(jì) 2022-2025 年工業(yè)領(lǐng)域用水量需求總體穩(wěn)定。
 
  同時(shí),為了提高資源利用率,《工業(yè)廢水循環(huán)利用實(shí)施方案》提出到2025年工業(yè)用水回用率要達(dá)到94%左右,對(duì)工業(yè)廢水深度處理需求更高。隨著工業(yè)廢水處理和工業(yè)用水回用要求的提高,工業(yè)廢水深度處理率不斷提升。如前所述,深度處理工藝中,高級(jí)氧化法具有降 COD 能力強(qiáng),可去除難降解有機(jī)物等優(yōu)點(diǎn),在紡織印染、皮革、電鍍、醫(yī)藥等行業(yè)的廢水處理中得到了廣泛應(yīng)用。
 
  臭氧氧化較傳統(tǒng)化學(xué)氧化工藝,無藥劑成本,不會(huì)產(chǎn)生復(fù)雜的化學(xué)產(chǎn)物,有利于出水回用,具有技術(shù)替代趨勢。預(yù)計(jì) 2025 年工業(yè)廢水臭氧設(shè)備市場空間 10.4 億元,2021-2025 年 CAGR 為8.2%。
 
  不同行業(yè)的工業(yè)廢水在化學(xué)需氧量、重金屬濃度、色度、濁度等方面存在較大差異,臭氧投加量可在 10-300mg/L 范圍內(nèi)變化。根據(jù)工程經(jīng)驗(yàn)臭氧投加量和化學(xué)需氧量之比取為 3,工業(yè)廢水化學(xué)需氧量進(jìn)行測算,按照設(shè)備使用年限 6-7年,2022 年深度處理占比即達(dá)到 100%,臭氧工藝占比持續(xù)提升進(jìn)行測算,預(yù)計(jì) 2022-2025 年工業(yè)廢水領(lǐng)域臭氧設(shè)備市場空間為8.8/9.2/9.8/10.4 億元,同比增速 15.0%/4.3%/7.1%/6.6%。
 
  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)替代,清洗用臭氧打開新空間
 
  半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移&產(chǎn)業(yè)鏈安全,半導(dǎo)體清洗設(shè)備及核心零部件國產(chǎn)替代空間廣闊。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中心從美國、日韓、中國臺(tái)灣向中國大陸轉(zhuǎn)移,中國大陸成為全球晶圓新增產(chǎn)能中心。
 
  根據(jù)盛美半導(dǎo)體投資者交流材料,2017-2020年期間中國新投產(chǎn)晶圓產(chǎn)能占比達(dá)42%,擴(kuò)張迅猛。根據(jù) JW Insights 統(tǒng)計(jì),2022年初中國大陸共有23家12英寸晶圓廠正在投入生產(chǎn),總產(chǎn)能104.2萬片/月,與規(guī)劃總產(chǎn)能156.5萬片/月相比仍有較大擴(kuò)產(chǎn)空間。
 
  此外JW Insights 預(yù)測試圖覆蓋未來增量市場,中國大陸2022-2026年將新增25座12英寸晶圓廠,總規(guī)劃產(chǎn)能160萬片/月,較當(dāng)前產(chǎn)能提高165%。中國大陸晶圓廠積極擴(kuò)產(chǎn)帶動(dòng)中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售高增。
 
  2022年10月7日,美國商務(wù)部宣布了新的半導(dǎo)體限制措施,波動(dòng)的國際形勢下,半導(dǎo)體行業(yè)限制措施頒布的頻次加快,影響加深,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈安全重要性提到新高度,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)替代加速。
 
  清洗是貫穿半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要工藝環(huán)節(jié),用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測試中每個(gè)步驟可能存在的雜質(zhì),確保芯片良率與產(chǎn)品性能。當(dāng)前在光刻、刻蝕、沉積等重復(fù)性工序后均設(shè)置了清洗工序,清洗步驟數(shù)量約占所有芯片制造工序步驟的 30%以上,是所有芯片制造工藝步驟中占比最大的工序。
 
  隨著工藝制程升級(jí),芯片結(jié)構(gòu)復(fù)雜度不斷提升,晶圓制造工藝更加精密化,清洗工序數(shù)量和重要持續(xù)提升。濕法清洗與干法清洗通過清洗介質(zhì)進(jìn)行區(qū)分,濕法主要是采用特定的化學(xué)藥液和去離子水,對(duì)晶圓表面進(jìn)行無損傷清洗,同時(shí)可采用超聲波、加熱、真空等輔助技術(shù)手段;干法清洗則不使用化學(xué)溶劑,以氧氣等離子氣體、化學(xué)試劑的氣相等效物、高能束流狀物質(zhì)等進(jìn)行清洗。
 
  目前濕法清洗為主流的清洗技術(shù)路線,占芯片制造清洗步驟梳理的 90%以上,少量特定步驟采用濕法、干法相結(jié)合的方式,取長補(bǔ)短構(gòu)建清洗方案。
 
  根據(jù) SEMI數(shù)據(jù),2021 年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場規(guī)模 1026 億美元,中國半導(dǎo)體設(shè)備銷售占比 29%,清洗設(shè)備價(jià)值量占比 5%,中國大陸半導(dǎo)體清洗設(shè)備市場空間達(dá) 15 億美元??紤]臭氧發(fā)生器占半導(dǎo)體清洗設(shè)備價(jià)值的比例為 15%,預(yù)計(jì) 2025 年/2030 年中國大陸半導(dǎo)體用臭氧發(fā)生器市場空間約 3.4 / 3.8 億美元。
 
  根據(jù)國林科技公告,預(yù)計(jì) 2021 年半導(dǎo)體清洗用臭氧設(shè)備國產(chǎn)化率僅 10%左右,假設(shè)清洗設(shè)備核心零部件國產(chǎn)化率快速提升,至 2030年國產(chǎn)化率達(dá) 95%,預(yù)計(jì) 2025 年/2030 年中國大陸半導(dǎo)體用臭氧發(fā)生器國產(chǎn)替代空間 1.6/ 3.7 億美元,較傳統(tǒng)臭氧下游市場空間彈性超 100%,2021-2030 年國產(chǎn)替代空間 CAGR 達(dá) 37%。
 
  原文標(biāo)題 : 臭氧設(shè)備空間穩(wěn)步增長,產(chǎn)品性能提升,新領(lǐng)域拓展未來可期
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