產品介紹：KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳納米管材料CVD設備由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成，溫度可以達到1050度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調節(jié)可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合

詳細介紹

產品介紹：
KJ-T1050-CVD-LZ型石墨稀、碳納米管材料CVD設備由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)+水冷系統(tǒng)組成，溫度可以達到1050度,可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，極限真空可以達到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調節(jié)可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。
管式爐采用摻鉬合金加熱絲為加熱元件，采用雙層殼體結構和宇電控溫儀表，能進行30段程序控溫，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用日本進口氧化鋁多晶纖維材料，具有溫場均衡、表面溫度低、節(jié)能等優(yōu)點。
軟件控制系統(tǒng)：該爐配有通訊接口和軟件，可以直接通過電腦控制爐子的各個參數，并能從電腦上觀察到爐子上PV和SV溫度值和儀表的運行情況，爐子的實際升溫曲線電腦會實時繪出，并能把每個時刻的溫度數據保存起來，隨時可以調出。

應用范圍：
該設備主要用于石墨稀、納米材料工藝涂層、多晶硅、碳化硅、擴散、氧化、退火等工藝。
　　　
參數詳情：

產品名稱	石墨稀、碳納米管材料CVD設備
產品型號	KJ-T1050-CVD-LZ
爐型結構	臥式、單管或多管系統(tǒng)自動控制
適應晶片尺寸	50--200mm
取片方式	自動懸臂石英推拉舟，配合手動取、放片
溫度	1050℃
極限真空度	優(yōu)于1Pa
溫度穩(wěn)定性	400℃~850℃≦+-0.5℃/24h
抽速	抽限真空時間15min左右
供電電源	380V 50Hz 三相五線
選配	冷卻水：2~4KGF/c㎡,8L/min
更多規(guī)格可根據需求定制

1、我公司對所供設備提供質保一年保修服務（易損件除外），在保修期內因設備質量原因造成的設備損壞或故障，均予以免費維修。保修期滿后，仍提供終身的、優(yōu)質的維修服務。
2、在設備使用過程中如遇故障的，我公司將盡快做出處理方案，確保設備正常運行。
3、我公司設提供免費的設備操作培訓和簡單故障排除維修培訓。
4、我公司技術人員可提供(產品安裝調試、整機維護、技術講解及操作指導等)。
5、本公司可提供運輸服務，包裝方式均按照標準安全包裝進行。隨機技術資料齊全（用戶手冊、保修手冊、有關資料及配件、隨機工具等）。
6、本公司所有產品均有歐盟CE質量認證。

關鍵詞：水冷系統(tǒng) 流量計浮子流量計