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納米銦錫金屬氧化物高速分散機

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產(chǎn)品型號ERS2000

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地上海市

聯(lián)系方式:馬玉林查看聯(lián)系方式

更新時間:2017-04-18 11:28:45瀏覽次數(shù):422次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:100條

所在地區(qū):上海上海市

聯(lián)系人:馬玉林 (銷售工程師)

產(chǎn)品簡介

納米銦錫金屬氧化物高速分散機可以處理量大,運轉更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料*通過分散剪切。

詳細介紹

納米銦錫金屬氧化物高速分散機,金屬氧化物高速分散機,納米銦錫高速分散機,高剪切研磨分散機,分體式高速分散機,管線式分散機

分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布。 

作為納米銦錫金屬氧化物,具有很好的導電性和透明性,可以切斷對人體有害的電子輻射、紫外線及遠紅外線。因此,銦錫氧化物通常噴涂在玻璃、塑料及電子顯示屏上,用作透明導電薄膜,同時減少對人體有害的電子輻射及紫外、紅外。

ITO 是一種N型氧化物半導體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導體透明導電膜,通常有兩個性能指標:電阻率和透光率。

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在氧化物導電膜中,以摻Sn的In2O3(ITO)膜的透過率zui高和導電性能,而且容易在酸液中蝕刻出細微的圖形,其中透光率達90%以上。ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例來控制,通常SnO2:In2O3=1:9。

目前ITO膜層之電阻率一般在5*10E-4左右,可達5*10E-5,已接近金屬的電阻率,在實際應用時,常以方塊電阻來表征ITO的導電性能,其透過率則可達90%以上,ITO膜之透過率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例控制,增加氧化銦比例則可提高ITO之透過率,通常SnO2: In2O3=1:9,因為氧化錫之厚度超過200Å時,通常透明度已不夠好---雖然導電性能很好。

顆粒細化到納米級后,其表面積累了大量的正、負電荷,納米顆粒的形狀極不規(guī)則,這樣造成了電荷的聚集。納米顆粒表面原子比例隨著納米粒徑的降低而迅速增加,當降至1nm時,表面原子比例高達90%,原子幾乎全部集中到顆粒表面,處于高度活化狀態(tài),導致表面原子配位數(shù)不足和高表面能。納米顆粒具有很高的化學活性,表現(xiàn)出強烈的表面效應,很容易發(fā)生聚集而達到穩(wěn)定狀態(tài),從而團聚發(fā)生
*納米氧化物極易產(chǎn)生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發(fā)揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發(fā)揮,還取決于zui大限度降低粉體與介質(zhì)間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發(fā)揮其應有的奇異性能。

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影響分散乳化結果的因素有以下幾點

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 
g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

 

速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60

 

    高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。可以處理量大,運轉更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料*通過分散剪切。

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關鍵詞:高速分散機
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