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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
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上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
產(chǎn)品型號(hào)CMD2000
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
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更新時(shí)間：2025-03-26 19:42:36瀏覽次數(shù)：1136次
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醫(yī)藥級(jí)聚乙二醇PEG研磨均質(zhì)機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
醫(yī)藥級(jí)聚乙二醇PEG研磨均質(zhì)機(jī) 無泄漏納米均質(zhì)機(jī)，藥物制劑聚乙二醇研磨均質(zhì)機(jī)，可加熱的德國(guó)均質(zhì)機(jī)，醫(yī)藥助劑PEG研磨均質(zhì)機(jī)，無泄漏分體式均質(zhì)機(jī)
IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
聚乙二醇和聚乙二醇脂肪酸酯在化妝品工業(yè)和制藥工業(yè)中的應(yīng)用很廣泛。由于聚乙二醇兼有很多優(yōu)良的性質(zhì)： 水溶性、不揮發(fā)性、生理惰性、溫和性、潤(rùn)滑性和使皮膚潤(rùn)濕、柔軟、有愉快用后感等。可選取不同相對(duì)分子質(zhì)量級(jí)分的聚乙二醇改變制品的粘度、吸濕性和組織結(jié)構(gòu)。相對(duì)分子質(zhì)量低的聚乙二醇(Mr<2000)適于用作潤(rùn)濕劑和稠度調(diào)節(jié)劑，用于膏霜、乳液、牙膏和剃須膏等，也適用于不清洗的護(hù)發(fā)制品，賦予頭發(fā)有絲狀光澤。相對(duì)分子質(zhì)量高的聚乙二醇(mr>2000)適用于唇膏、除臭棒、香皂、剃須皂、粉底和美容化妝品等。在清洗劑中，聚乙二醇也用作懸浮劑和增稠劑。在制藥工業(yè)上，用作油膏、乳劑、軟膏、洗劑和栓劑的基質(zhì)。市售符合食品和藥物使用的聚乙二醇(如Polyethylene Glycol NF，Dow chemical Co.)更適于化妝品使用。甲氧基聚乙二醇和聚丙二醇的應(yīng)用與聚乙二醇相近。
聚乙二醇廣泛用于多種藥物制劑，如注射劑、局部用制劑、眼用制劑、口服和直腸用制劑。固體級(jí)別的聚乙二醇可以加入液體聚乙二醇調(diào)整黏度，用于局部用軟膏；聚乙二醇混合物可用作栓劑基質(zhì)；聚乙二醇的水溶液可作為助懸劑或用于調(diào)整其他混懸介質(zhì)的黏稠度；聚乙二醇和其他乳化劑合用，增加乳劑穩(wěn)定性。此外，聚乙二醇還用作薄膜包衣劑、片劑潤(rùn)滑劑、控釋材料等。
醫(yī)藥級(jí)聚乙二醇PEG研磨均質(zhì)機(jī) 無泄漏納米均質(zhì)機(jī)機(jī)的細(xì)化作用一般來說要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī)，它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下一步到位的高要求產(chǎn)品生產(chǎn)過程。 此款設(shè)備由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
本設(shè)備有以下方面的顯zhu改進(jìn)和革新：
? 適應(yīng)FDA的指導(dǎo)方針，符合美國(guó)3A衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)和EHEDG標(biāo)準(zhǔn)
? 適合在線清洗和在線殺菌
? 多種形式分散頭可供選擇
? 可擴(kuò)大規(guī)模生產(chǎn)
? 從低到高的剪切效果
? 采用德國(guó)先jin的博格曼機(jī)械密封
? 降低噪音 模塊化設(shè)計(jì)
? 提供從單級(jí)到多級(jí)的各類分散頭
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上海IKN技術(shù)，du特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)"、“研磨均質(zhì)機(jī)"、“研磨乳化機(jī)"。表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、氣動(dòng)馬達(dá)
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
均質(zhì)機(jī)材質(zhì)：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti
均質(zhì)機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
均質(zhì)機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
均質(zhì)機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于ge種不同大小的容器.
影響分散均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 均質(zhì)頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 均質(zhì)頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 均質(zhì)頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間，均質(zhì)分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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