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醫(yī)藥級聚乙二醇PEG研磨均質機

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具體成交價以合同協議為準

產品型號CMD2000

品       牌其他品牌

廠商性質生產商

所  在  地上海市

聯系方式:馬玉林查看聯系方式

更新時間:2019-02-21 16:03:50瀏覽次數:909次

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經營模式:生產廠家

商鋪產品:100條

所在地區(qū):上海上海市

聯系人:馬玉林 (銷售工程師)

產品簡介
大小 大型 加工定制
類型 轉軸式研磨機    

醫(yī)藥級聚乙二醇PEG研磨均質機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

詳細介紹

醫(yī)藥級聚乙二醇PEG研磨均質機 無泄漏納米均質機,藥物制劑聚乙二醇研磨均質機,可加熱的德國均質機,醫(yī)藥助劑PEG研磨均質機,無泄漏分體式均質機

 IKN研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

聚乙二醇和聚乙二醇脂肪酸酯在化妝品工業(yè)和制藥工業(yè)中的應用很廣泛。由于聚乙二醇兼有很多優(yōu)良的性質: 水溶性、不揮發(fā)性、生理惰性、溫和性、潤滑性和使皮膚潤濕、柔軟、有愉快用后感等??蛇x取不同相對分子質量級分的聚乙二醇改變制品的粘度、吸濕性和組織結構。相對分子質量低的聚乙二醇(Mr<2000)適于用作潤濕劑和稠度調節(jié)劑,用于膏霜、乳液、牙膏和剃須膏等,也適用于不清洗的護發(fā)制品,賦予頭發(fā)有絲狀光澤。相對分子質量高的聚乙二醇(Mr>2000)適用于唇膏、除臭棒、香皂、剃須皂、粉底和美容化妝品等。在清洗劑中,聚乙二醇也用作懸浮劑和增稠劑。在制藥工業(yè)上,用作油膏、乳劑、軟膏、洗劑和栓劑的基質。市售符合食品和藥物使用的聚乙二醇(如Polyethylene Glycol NF,Dow chemical Co.)更適于化妝品使用。甲氧基聚乙二醇和聚丙二醇的應用與聚乙二醇相近。
  聚乙二醇廣泛用于多種藥物制劑,如注射劑、局部用制劑、眼用制劑、口服和直腸用制劑。固體級別的聚乙二醇可以加入液體聚乙二醇調整黏度,用于局部用軟膏;聚乙二醇混合物可用作栓劑基質;聚乙二醇的水溶液可作為助懸劑或用于調整其他混懸介質的黏稠度;聚乙二醇和其他乳化劑合用,增加乳劑穩(wěn)定性。此外,聚乙二醇還用作薄膜包衣劑、片劑潤滑劑、控釋材料等。

 

醫(yī)藥級聚乙二醇PEG研磨均質機 無泄漏納米均質機機的細化作用一般來說要強于均質機,它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下一步到位的高要求產品生產過程。 此款設備由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

本設備有以下方面的顯zhu改進和革新:

?     適應FDA的指導方針,符合美國3A衛(wèi)生標準和EHEDG標準

?     適合在線清洗和在線殺菌

?     多種形式分散頭可供選擇

?      可擴大規(guī)模生產

?     從低到高的剪切效果

?     采用德國先jin的博格曼機械密封

?     降低噪音 模塊化設計

?     提供從單級到多級的各類分散頭

 醫(yī)藥級聚乙二醇PEG研磨均質機 無泄漏納米均質機,藥物制劑聚乙二醇研磨均質機,可加熱的德國均質機,醫(yī)藥助劑PEG研磨均質機,無泄漏分體式均質機

上海IKN技術,du特創(chuàng)意,融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級

電機形式:普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、氣動馬達

電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

電機選配件: PTC 熱保護、降噪型

均質機材質:SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti

均質機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車

均質機表面處理:拋光、耐磨處理

進出口聯結形式:法蘭、螺口、夾箍

均質機選配容器:本設備適合于ge種不同大小的容器.

 

影響分散均質結果的因素有以下幾點

1 均質頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 均質頭的剪切速率 (越大,效果越好)

3 均質頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4 物料在分散墻體的停留時間,均質分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 

g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 

IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60

 

CMSD2000系列研磨分散機設備選型表

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

?CMSD2000/4

300

14000

41

4

DN25/DN15

CMSD2000/5

1000

10500

41

11

DN40/DN32

CMSD2000/10

4000

7200

41

22

DN80/DN65

CMSD2000/20

10000

4900

41

45

DN80/DN65

CMSD2000/30

20000

2850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1100

41

160

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%

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