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福建某藥廠購買醫(yī)藥級研磨分散機用于藥物混懸液的研磨

閱讀：665發(fā)布時間：2014-7-8

　　混懸液膠體磨
　　
　　混懸，不溶性固體顆粒分散于液體分散介質(zhì)的過程稱為混懸。
　　
　　混懸液的穩(wěn)定劑，在混懸液里加入一種物質(zhì)，使混懸液保持亞穩(wěn)定狀態(tài)，加入的物質(zhì)稱為穩(wěn)定劑。
　　
　　混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題?；鞈乙褐兴幬镂⒘７稚⒍却?，微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面，是混懸微粒具有較高的表面自由能，混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。
　　
　　若要制得沉降緩慢的混懸液，應(yīng)減少顆粒的大小，增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。實驗工作中主要應(yīng)用前兩種手段增加穩(wěn)定性。增稠劑可用糖漿、天然膠類、以及合成的可溶性纖維素類。
　　
　　加入表面活性劑可以降低界面自由能，使系統(tǒng)更加穩(wěn)定，而且表面活性劑由可以作為潤濕劑，可有效的解決疏水性藥物在水中的聚集。顆粒的絮凝與其表面帶電情況有關(guān)，若加入適量的絮凝劑（電解質(zhì)）使顆粒ζ電位降至一定程度，微粒就發(fā)生絮凝，混懸劑相對穩(wěn)定，絮凝沉淀物體積大，振搖后易再分散。加入反絮凝劑（電解質(zhì)）可以增加已存在固體表面的電荷，使這些帶電的顆粒相互排斥而不致絮凝。
　　
　　膠體磨CM2000系列特別適合于膠體溶液，超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，CM在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。CM2000整機采用*幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
　　
　　高剪切膠體磨運行原理：
　　
　　高剪切膠體磨在電動機的高速轉(zhuǎn)動下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入高剪切破碎區(qū)，通過一種特殊粉碎裝置，將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎，然后吸入剪切粉碎區(qū)，在十分狹窄的工作過道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對高速切割從而產(chǎn)生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎。精磨區(qū)分三級，越向外延伸一級磨片精度越高，齒距越小，線速度越長，物料越磨越細(xì)，同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等，在經(jīng)過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之后，從而產(chǎn)生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎、乳化、均質(zhì)、細(xì)化的目的。液料的zui小細(xì)度可達(dá)0.5um。
　　
　　高剪切膠體磨主要用途
　　
　　高剪切膠體磨適用于制藥、食品、化工及其它行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)德粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國外同類產(chǎn)品的*水平。
　　
　　膠體磨應(yīng)用領(lǐng)域：
　　
　?、偈称饭I(yè)：果茶、冰淇淋、月餅餡、果醬、果汁、豆醬、豆沙、花生奶、蛋白奶、乳制品，麥乳精、各種飲料等。
　　
　?、诨瘜W(xué)工業(yè)：油漆、顏料、潤滑脂、柴油、石油催化劑、乳化瀝青、洗滌劑、玻璃鋼、白炭黑,二氧化硅等。
　　
　?、廴沼没ぃ貉栏唷⑾礈靹?、洗發(fā)精、鞋油、化妝品、沐浴精、肥皂、香脂等。
　　
　?、茚t(yī)藥工業(yè)：各型糖漿、中成藥、生物制品、*、蜂皇漿、疫苗、藥膏、口服液、針劑、混懸注射液,脂肪乳等。
　　
　?、萁ㄖI(yè)：各種涂料。包括內(nèi)外墻涂料、防腐防水涂料、冷瓷涂料、多彩涂料、陶瓷釉料等。
　　
　　其它工業(yè)：塑料工業(yè)、紡織工業(yè)、造紙工業(yè)、煤炭浮選劑、納米材料等行業(yè)環(huán)保的生產(chǎn)需要。
　　
　　IKN膠體磨結(jié)構(gòu)：
　　
　　三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細(xì)磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。
　　
　　CM2000系列的特點：
　　
　　①定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。
　　
　　②齒列的深度：從開始的2.7mm到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。
　　
　?、蹨喜鄣慕Y(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
　　
　　CM2000系列設(shè)備選型表
　　
　　型號流量
　　
　　L/H輸出轉(zhuǎn)速
　　
　　rpm線速度
　　
　　m/s馬達(dá)功率
　　
　　KW出/入口連接
　　
　　CM2000/47009，000232.2DN25/DN15
　　
　　CM2000/53，0006，000237.5DN40/DN32
　　
　　CM2000/108，0004，2002315DN50/DN50
　　
　　CM2000/2020，0002，8502337DN80/DN65
　　
　　CM2000/3040，0001，4202355DN150/DN125
　　
　　CM2000/5080，0001，10023110DN200/DN150
　　
　　注：流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
　　
　　IKN的CM2000系列和國內(nèi)設(shè)備相比
　　
　?、俎D(zhuǎn)速：
　　
　　國內(nèi)設(shè)備：目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié)，若通過變頻調(diào)節(jié)，他們的軸承不能承受高速運轉(zhuǎn)。一般在3000RPM（這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。）
　　
　　IKN：可以通過變頻調(diào)速，轉(zhuǎn)速可達(dá)7890/13789RPM，通過皮帶加速我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細(xì)度更小)
　　
　?、谌壗Y(jié)構(gòu)：
　　
　　雖然都是三級結(jié)構(gòu)
　　
　　國內(nèi)設(shè)備：溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣。
　　
　　IKN：溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺。
　　
　?、勰ヮ^的結(jié)構(gòu)
　　
　　國內(nèi)設(shè)備：斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大。
　　
　　IKN：溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
　　
　　這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別，我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。
　　
　?、躾ui大線速度（如磨頭的相同直徑）：
　　
　　國內(nèi)設(shè)備：大約在10-15m/s
　　
　　IKN：可達(dá)到23-40m/s
　　
　　⑤模塊頭：
　　
　　國內(nèi)設(shè)備：只有一種模塊頭。
　　
　　IKN：可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，CM膠體模塊，CMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。
　　
　?、廾芊庑问?br />　　
　　國內(nèi)設(shè)備：單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀
　　
　　IKN：雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至zui低，可24小時不停運轉(zhuǎn)
　　
　?、吖ぷ髑惑w方式
　　
　　國內(nèi)設(shè)備：臥式或立式（馬達(dá)一體式），軸承部分受力較大，易于損壞，維護保養(yǎng)復(fù)雜，清洗苦難
　　
　　IKN：立式，皮帶驅(qū)動，易于維護，可有效保護馬達(dá)及齒輪箱，防止損壞符合流體流動原理，易于清洗
　　
　?、喈a(chǎn)品效果
　　
　　國內(nèi)設(shè)備：粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差。
　　
　　IKN：間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
　　
　　膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機，但它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。

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