十堰循環(huán)水冷卻塔殺菌除垢機 吸垢集垢裝置 全程水處理器
HGXG-4 ¥5000污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
杭州桂冠環(huán)??萍加邢薰?b class="member-infor">
酸堿加藥裝置參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號HGLSQ
品 牌桂冠環(huán)保
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地杭州市
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更新時間:2015-09-20 18:11:50瀏覽次數(shù):598次
聯(lián)系我時,請告知來自 環(huán)保在線全自動動態(tài)離子群水處理設(shè)備 使用動態(tài)HGLSQ離子群水處理機組(電離釋放型動態(tài)水處理器)的幾個理由 :傳統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水的方法主要是加入化學(xué)藥品來抑制微生物生長和結(jié)垢,但因水中藥品和無機鹽隨水的蒸發(fā)而濃度增加,這樣必須排放部分含藥和無機鹽的冷卻水,同時及時補充清潔水。
一、全自動動態(tài)離子群水處理設(shè)備 使用動態(tài)HGLSQ離子群水處理機組(電離釋放型動態(tài)水處理系統(tǒng))的幾個理由
全自動動態(tài)離子群水處理設(shè)備統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水的方法主要是加入化學(xué)藥品來抑制微生物生長和結(jié)垢,但因水中藥品和無機鹽隨水的蒸發(fā)而濃度增加,這樣必須排放部分含藥和無機鹽的冷卻水,同時及時補充清潔水。傳統(tǒng)處理方法帶來的問題:系統(tǒng)用水量增加和大量排水,間接導(dǎo)致水費增加;微生物的抗藥性,要求及時地、適時地改變藥品;盡管如此,結(jié)垢問題、生物膜,軍團菌三大問題還是不能*解決。
由冷卻塔等設(shè)備形成的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)是軍團菌容易生存、繁殖的場所之一,同時可借助冷卻塔冷卻風(fēng)機,將軍團菌散布至都市各個角落,對人體產(chǎn)生*的危害之隱患。
二、全自動動態(tài)離子群水處理設(shè)備 圖例說明傳統(tǒng)水處理與HP離子群
圖1 沒有處理過 圖2 傳統(tǒng)處理過 圖3 Kl離子群處理過
北京、上海動態(tài)離子群水處理系統(tǒng)從圖中我們明顯的看出KL離子群的使用效果,下面我們詳細的分析一下循環(huán)冷卻水中的各種問題及處理方案。
1、循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中管道內(nèi)外表面結(jié)垢的主要成分是鈣鹽與鎂鹽,它們的溶解度隨溫度的增高而降低,這類鹽就會沉積在加熱表面上,參見圖1。
表1:結(jié)垢的厚度與熱效的關(guān)系
結(jié)垢厚度(mm) | 0.15 | 0.3 | 0.61 | 0.84 | 1.22 |
熱效損失(%) | 5.3 | 10.8 | 21.5 | 32.2 | 43.0 |
2、冷卻循環(huán)水中的生物膜
循環(huán)冷卻水適宜的溫度,大量不清潔的空氣,以及被太陽直射開放的集水池等諸多條件,均有利于各種微生物的生存與繁殖。
大量的實地實驗證明,清潔的換熱器管道內(nèi)外表面是不易形成積垢的,無機物沉淀后的垢質(zhì)是一種疏松的粉末,很容易被水流沖走。但微生物一旦生成,繼而產(chǎn)生生物膜,無機物沉淀與生物膜結(jié)合催生的聚合物,將會很難處理。
圖7 生物膜的放大形態(tài)
表2:幾種微生物細菌的世代期
微生物名稱 | 世代時間(分鐘) |
蠟狀芽孢桿菌 | 18 |
覃狀芽孢桿菌 | 28 |
嗜熱芽孢桿菌 | 13.8 |
巨大芽孢桿菌 | 32 |
假單胞桿菌 | 9.8 |
嗜酸乳酸菌 | 66~90 |
乳鏈球菌 | 26 |
小球菌 | 8.5 |
圖8 微生物
動態(tài)HGLSQ離子群水處理機組設(shè)備示意圖
三、動態(tài)離子群水處理儀 循環(huán)冷卻水質(zhì)穩(wěn)定性判斷
1、飽和指數(shù)法:IL=PHe-PHs
式中IL-飽和指數(shù)(朗格利爾指數(shù))
熱阻為傳熱系數(shù)的倒數(shù)。
PHe-水的實例PH值;
PHs-水的碳酸鈣飽和平衡時的PH值;
(1)當(dāng)IL=PHe-PHs>0時,水中的碳酸鈣處于過飽和狀態(tài),有結(jié)垢傾向。
(2)當(dāng)IL=PHe-PHs=0時,水中的碳酸鈣剛好處于平衡狀態(tài),*、不結(jié)垢。
(3)當(dāng)IL=PHe-PHs<0時,水中CO2過飽和,有腐蝕傾向。
2、穩(wěn)當(dāng)指數(shù)法: IL=2PHs-PHe
3、臨界PH值法;
4、用試驗方法測得剛剛出現(xiàn)結(jié)垢時的水的PH值,稱為臨界PH值,用PHc表示。
動態(tài)HGLSQ離子群控制:PH值 電導(dǎo)率 濁度 鈣離子 鎂離子 軍團菌 微生物
氯離子 總硬度 鋅離子 總鐵離子 正磷 總磷
離子群的簡寫:Cooperate
四、動態(tài)HGLSQ離子群的控制原理
在噴淋式冷卻塔中,軍團菌zui易繁殖。軍團菌也是一種非典型肺炎病菌,能在25~42℃水溫下迅速繁殖,這種病菌通常存在于空調(diào)冷卻塔,加濕器和冷熱水管道中,由飛灑的水滴和灰塵攜帶,通過建筑物的通風(fēng)系統(tǒng)和空調(diào)的新風(fēng)系統(tǒng)進入室內(nèi)。2006年2月10衛(wèi)生部發(fā)布的《公共場所集中空調(diào)通風(fēng)系統(tǒng)衛(wèi)生管理辦法》明確規(guī)定: 空調(diào)系統(tǒng)冷卻水、冷凝水不得檢出軍團菌。
磷酸鹽和聚合物類阻垢劑
冷卻水系統(tǒng)在水高濃縮倍數(shù)下進行,由于磷酸鹽會大量的附著在金屬的表面上,反而引起結(jié)垢的危害,并且,聚磷酸鹽會水解生成正磷酸鹽,生成磷酸鹽垢。后有磷酸鹽和聚合物類阻垢劑的復(fù)合藥劑,即使冷卻水被高度濃縮,仍能充分發(fā)揮緩蝕和阻垢效果。
1.光催化劑的主要成分是納米級的*,它吸收陽光中的紫外線后,可形成活性氧類的超氧化物,破壞病毒所寄宿細胞的細胞膜,凝固病毒的蛋白質(zhì),抑制病毒的活性和細菌的繁殖,殺菌能力達99.9%。
2.氧化性殺菌劑通常為強氧化劑,能夠氧化微生物體內(nèi)起代謝作用的酶,從而殺滅微生物。氧化性殺菌劑對所有的微生物都有良好的殺滅能力。
3.非氧化性殺菌劑是以致毒劑作用于微生物,破壞微生物的新陳代謝或分裂細胞壁。
4.剝離劑在冷卻水中使用微生物剝離劑,他們不能直接殺死微生物,但是可以將微生物從系統(tǒng)中剝離下來,被沖走或由殺菌劑將其殺滅。zui主要的特點,剝離劑可以去除微生物粘泥的沉積,保證系統(tǒng)的清潔,這是控制軍團菌zui為有效的方法。
氧化銀
微生物在循環(huán)冷卻水系統(tǒng)中的大量繁殖生長會使水質(zhì)惡化,影響系統(tǒng)正常運行 。由日本開發(fā)研制的載銀玻璃抗菌劑以磷酸鹽玻璃和硼硅酸鹽玻璃為載體,在玻璃熔制過程中加入了氧化銀作為殺菌成分 。在冷卻循環(huán)水箱中添加適量上述可溶性玻璃及適量銅鋅合金纖維,可以持久抑菌、滅藻及防止污穢。另一種工業(yè)循環(huán)冷卻水用殺菌玻璃由SiO2 、Na2O、Al2O3 和Ag2O 組成,由于不含硼,所以這種玻璃成本低,含少量Al2O3 可提高玻璃中Ag2O 的含量并減緩玻璃的潮解,殺菌滅藻性能更強、更持久。
空調(diào)水系統(tǒng)
在熱水系統(tǒng)包括空調(diào)水系統(tǒng)中經(jīng)常會滋生一些致病微生物,如軍團菌等,危害人類健康。直接使用銀鹽就能很好地殺滅熱水系統(tǒng)中的軍團菌。研究表明,3μg/ L 的銀離子就能很好地控制循環(huán)熱水系統(tǒng)中軍團菌的生長。為控制熱水系統(tǒng)中的軍團菌,現(xiàn)在使用較多的是銅銀離子復(fù)合殺菌劑。Stout等在醫(yī)院熱水系統(tǒng)中采用含銀離子0104 mg/L 、銅離子0117 mg/L 的銅銀離子復(fù)合殺菌劑來控制軍團菌并取得了較好的效果。
游泳池水處理
游泳池水處理用殺菌劑必須有高度的安全性,因此含銀殺菌劑在這一領(lǐng)域有廣闊的應(yīng)用前景。Anman 發(fā)明了一種能用于游泳池水處理的殺菌劑,該藥劑以正2 價銀的氧化物為主要殺菌物質(zhì),能在水中穩(wěn)定存在,殺菌效率高,并且對人體有高度的安全性,完*取代氯系、溴系殺菌劑。
飲用水處理
桂冠環(huán)保公司研制出一種飲用水用高分散銀型活性炭纖維殺菌劑,與水接觸后可緩釋出銀離子,從而起到殺菌作用。據(jù)報道,這種高分散銀型活性炭纖維與水接觸2 h 后就可將常見病原性的大腸桿菌和**殺滅。
氧化硼
加入H2S04,使易揮發(fā)的PbCl2轉(zhuǎn)變成難揮發(fā)的PbSO4或?qū)⒙入x子轉(zhuǎn)變?yōu)?而趕走。NaOH曾被用來沉淀鐵為氫氧化鐵或轉(zhuǎn)鋅為鋅酸鹽;H3B03可以防止Pb(ND3)2被器皿滯留并使PbCl2定量回收,是因為硼與硅和鉛反應(yīng)形成了硼-硅-鉛玻璃,而防止鉛被揮發(fā),同時由于氧化硼形成二相的化合物,在酸的作用下,可以使Pb定量的轉(zhuǎn)入溶液,而防止了被石英器皿滯留。
五、槐氏公式的定性解釋
分散度即顆粒大小,分散度越大,顆粒越小。
六、沉淀的形成過程
1、沉淀形成過程
2、成核作用(晶核的形成)
(1)均相成核作用(自發(fā)成核)
構(gòu)晶離子在過飽和溶液中由于靜電作用先形成離子對→離子群→晶核。
(2)異相成核作用(誘導(dǎo)成核)
溶液中某些固體微粒、容器壁上的毛刺等起晶種作用,形成晶核(晶核數(shù)不變)。
七、表面吸附
吸附層:優(yōu)先吸附構(gòu)晶離子 。
擴散層:優(yōu)先吸附與構(gòu)晶離子能形成溶解度小,離解度小的物質(zhì)的抗衡離子。當(dāng)C相近時,
Z愈大,變形性愈大,越易被吸附;
當(dāng)Z相同時,C愈大,越易被吸附。
一般,某些陰陽離子被吸附的強度順序
八、安裝示意圖
九、動態(tài)HP離子群機組參數(shù)及尺寸表
型 號 | 進出水口直徑(mm) | zui大處理流量(T/h) | 主機尺寸(mm) | 副機尺寸(mm) | 電 源 | 離子群釋放 | 參數(shù)重量(kg) | ||||||
L | H | B | L | h1 | h2 | d | 主機 | 機副 | |||||
HGLSQ2R/N | 50 | 35 | 600 | 1200 | 500 | 680 | 251 | 612 | 20 | 220V232W | 150 | 30 | 45 |
HGLSQ-3R/N | 80 | 55 | 600 | 1200 | 500 | 710 | 278 | 612 | 25 | 220V242W | 150 | 30 | 48 |
HGLSQ-4R/N | 100 | 90 | 600 | 1200 | 500 | 710 | 318 | 612 | 25 | 220V282W | 150 | 30 | 56 |
HGLSQ-5R/N | 125 | 130 | 600 | 1200 | 500 | 730 | 327 | 645 | 25 | 220V312W | 150 | 30 | 72 |
HGLSQ-6R/N | 150 | 190 | 600 | 1200 | 500 | 730 | 382 | 695 | 40 | 220V580W | 150 | 30 | 80 |
HGLSQ-8R/N | 200 | 320 | 600 | 1200 | 500 | 780 | 410 | 825 | 40 | 220V610W | 150 | 30 | 95 |
HGLSQ10R/N | 250 | 500 | 600 | 1200 | 500 | 805 | 490 | 850 | 50 | 220V640W | 150 | 30 | 126 |
HGLSQ12R/N | 300 | 760 | 600 | 1200 | 500 | 935 | 520 | 910 | 50 | 220V720W | 150 | 30 | 175 |
HGLSQ14R/N | 350 | 1100 | 600 | 1200 | 500 | 1080 | 554 | 930 | 80 | 220V780W | 150 | 30 | 216 |
HGLSQ16R/N | 400 | 1350 | 600 | 1200 | 500 | 1180 | 572 | 985 | 80 | 220V832W | 150 | 30 | 265 |
HGLSQ18R/N | 450 | 1600 | 600 | 1200 | 500 | 1260 | 600 | 1025 | 80 | 220V880W | 150 | 30 | 358 |
HGLSQ20R/N | 500 | 2200 | 600 | 1200 | 500 | 1345 | 718 | 1070 | 100 | 220V950W | 150 | 30 | 475 |
HGLSQ24R/N | 600 | 2900 | 600 | 1200 | 500 | 1490 | 841 | 1140 | 100 | 220V1080W | 150 | 30 | 740 |
HGLSQ28R/N | 700 | 3450 | 600 | 1200 | 500 | 1620 | 992 | 1186 | 100 | 220V1200W | 150 | 30 | 999 |
HGLSQ32R/N | 800 | 4150 | 600 | 1200 | 500 | 1700 | 1190 | 1245 | 100 | 220V1450W | 150 | 30 | 1350 |
R為冷卻水、N為冷凍水。 |
十、參數(shù)與功能要求
過濾精度:1.0~8.0mm 管道連接:GB法蘭
離子置換率>90% 濁度<21 PH 7~8
總硬度<800mg/L 設(shè)備承壓≤1.6mpa
電流:Ac220v 50Hz 溶縮倍數(shù):6~8倍
除垢:>99% 防垢:>99%
除銹:>98% 水溫:0~80℃
殺軍團菌率>99% 滅藻率>99%
殺滅細菌率>99% 壓損<0.016Mpa
流速1~25m/s 水頭損失:0.15~1.0m
壓差范圍:28~310KPa 電異率≤200us/cm
防腐蝕率:<0.005毫米/年 腐蝕速度≤0.125mm/a(5mpy)
色度≤80~100 陰離子N03
杭州桂冠環(huán)??萍加邢薰?/SPAN>是一家致力于科研、生產(chǎn)、銷售水處理設(shè)備,過濾設(shè)備,水工業(yè)閥門的專業(yè)廠家。主要有自潔式排氣水過濾器、定壓補水真空脫氣機組、水處理器系列、螺旋脫氣除污器等四大系列,涵蓋電子除垢儀、電子水處理器、定壓補水機組、真空定壓補水排氣機組、全程綜合水處理器、真空脫氣機、水箱水處理器、旁流水處理器、螺旋脫氣除污器、螺旋空氣雜質(zhì)分離器等等。
關(guān)鍵詞:動態(tài)離子群水處理機組 電離釋放型動態(tài)水處理器 動態(tài)離子群水處理儀
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