污水處理設(shè)備 污泥處理設(shè)備 水處理過濾器 軟化水設(shè)備/除鹽設(shè)備 純凈水設(shè)備 消毒設(shè)備|加藥設(shè)備 供水/儲(chǔ)水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設(shè)備
常州普瑞流體技術(shù)有限公司
暫無信息 |
閱讀:41發(fā)布時(shí)間:2022-3-26
半導(dǎo)體制造要求始終控制工藝工具中的液體流動(dòng),苛刻的應(yīng)用之一是化學(xué)機(jī)械平坦化(CMP)。當(dāng)CMP工具不能將一致的漿料速率分配到拋光基材上時(shí),它會(huì)對(duì)產(chǎn)量,化學(xué)品使用和材料完整性產(chǎn)生極大的負(fù)面影響。晶圓厚度的變化,缺陷密度的增加,工具停機(jī)時(shí)間和晶圓廢料的增加只是流程控制不良可能導(dǎo)致的一些問題。
環(huán)保在線 設(shè)計(jì)制作,未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
請(qǐng)輸入你感興趣的產(chǎn)品
請(qǐng)簡單描述您的需求
請(qǐng)選擇省份