山東污水處理設(shè)備廠家
溶氣氣浮機(jī)為
吉豐簡述高鹽印染廢水處理技術(shù)
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諸城市吉豐機(jī)械科技有限公司
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目前我國印染行業(yè)發(fā)展迅速,染料廢水的種類和排放量不斷增加,影響人們的生態(tài)、生活環(huán)境。染料廢水具有色度高,水量大,含鹽量高,成分復(fù)雜,毒性大等特點(diǎn)。由于印染廢水成分復(fù)雜,難降解有機(jī)物多,傳統(tǒng)的廢水處理技術(shù)很難對其進(jìn)行有效的處理,探索新型的廢水處理技術(shù)是研究水處理技術(shù)的重點(diǎn)。電解法是氧化技術(shù)(AOPs)中常用的一種難降解污染物處理技術(shù),它具有二次污染少,反應(yīng)設(shè)備占地面積小,效率高,難降解物質(zhì)能被*處理等特點(diǎn)而受到廣泛關(guān)注。尤其在處理高鹽高濃度的染料廢水時(shí),一般水處理技術(shù)適應(yīng)不了處理環(huán)境,無法滿足達(dá)到要求,例如處理含鹽度高、毒性大的廢水時(shí),選擇生物處理法,可能會(huì)影響微生物生長,甚至導(dǎo)致微生物死亡。
電化學(xué)處理技術(shù)對環(huán)境的要求比較低,同時(shí)具有清潔特點(diǎn),深受研究者的看重。在電催化氧化處理含有的氯化鈉等染料廢水時(shí),氯離子在陽會(huì)產(chǎn)生CL2,次氯酸酸等強(qiáng)氧化性物質(zhì),在降解的過程有著協(xié)同效應(yīng),從而大大增強(qiáng)污染物的處理效果。因而電化學(xué)處理含鹽廢水,具有耗能少、低成本、清潔等優(yōu)點(diǎn),有一定的工業(yè)應(yīng)用前景。
在印染工業(yè)中,活性艷紅X-3B是應(yīng)用較廣、使用量比較大的一種偶氮染料,具有水溶性強(qiáng)、性質(zhì)穩(wěn)定和顏色變化直觀等特性。研究采用一種新型無基體二氧化鉛塑片電,該電使用壽命長,成本低。
針對現(xiàn)有技術(shù)中的上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種處理高鹽高濃度染料廢水的方法,所述的這種處理高鹽高濃度染料廢水的方法可以有效的解決現(xiàn)有技術(shù)中處理高鹽高濃度染料廢水的方法工藝復(fù)雜,使用生化法時(shí)候容易造成微生物死亡、處理效果不佳、或者造成二次污染的技術(shù)問題。
本發(fā)明提供了一種處理高鹽高濃度染料廢水的方法,采用塑片(CeO2/C)-β-PbO2-PTFE電為陽,鋼片為陰,在染料廢水中加入NaCl,所述的NaCl在染料廢水中的濃度大于4.5g L-1,在大于30mA cm-2的電流密度下進(jìn)行電催化,催化時(shí)間大于30min。
進(jìn)一步的,催化時(shí)間為60min。
進(jìn)一步的,在塑片20%(CeO2/C)-β-PbO2-PTFE電中,氧化鈰及石墨粉末的質(zhì)量百分比為20%。
進(jìn)一步的,所述的NaCl在染料廢水中的濃度為6g L-1。
進(jìn)一步的,陽和陰之間的間距為3cm。
為了增強(qiáng)電對污染物的降解能力,在電摻雜了氧化鈰和石墨。本發(fā)明利用20%(CeO2/C)-β-PbO2-PTFE電處理自配的高鹽、高濃度的活性艷紅X-3B染料廢水。在實(shí)驗(yàn)中分別考察了氯化鈉的質(zhì)量濃度,初始溶液的pH,板間距以及電流密度對電降解處理的影響,結(jié)果表明的實(shí)驗(yàn)條件值為NaCl的質(zhì)量濃度:6g L-1,電流密度值:30mA cm-2。同時(shí)用一般的實(shí)驗(yàn)條件即初始RBR X-3B濃度:2000mg L-1,溶液初始pH值:5.76,板間距為3cm,NaCl的濃度:4.5g L-1,在降解時(shí)間為60min時(shí)溶液中活性艷紅X-3B脫色率、COD去除率和電的電流效率分別可以達(dá)到97.34%、54.21%和37.53%。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明20%(CeO2/C)-β-PbO2-PTFE電在處理高鹽高濃度染料廢水方面有大的研究價(jià)值,具備一定的工業(yè)應(yīng)用前景。
本發(fā)明和已有技術(shù)相比,其技術(shù)進(jìn)步是顯著的。本發(fā)明采用一種塑片20%(CeO2/C)-β-PbO2-PTFE電與氯離子協(xié)同作用處理染料廢水,大大提高了廢水的脫色率和COD的去除率,同時(shí)也相應(yīng)的提高了塑片電降解的電流效率。本發(fā)明使用的無基體塑片二氧化鉛電,耐腐蝕性良好,機(jī)械強(qiáng)度高,穩(wěn)定性好,能夠長時(shí)間使用,操作簡單,成本低。