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美科學(xué)家研制出新型隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管

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 美科學(xué)家研制出新型隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管

美國(guó)圣母大學(xué)和賓夕法尼亞州立大學(xué)的科學(xué)家們表示,他們借用量子隧穿效應(yīng),研制出了性能可與目前的晶體管相媲美的隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管(TFET)。技術(shù)有望解決目前芯片上晶體管生熱過(guò)多的問(wèn)題,在一塊芯片上集成更多晶體管,從而提高電子設(shè)備的計(jì)算能力。

  晶體管是電子設(shè)備的基本組成元件,在過(guò)去40年間,科學(xué)家們主要通過(guò)將更多晶體管集成到一塊芯片上來(lái)提高電子設(shè)備的計(jì)算能力,但目前這條道路似乎已快走到盡頭。業(yè)界認(rèn)為,半導(dǎo)體工業(yè)正在快速接近晶體管小型化的物理極限?,F(xiàn)代晶體管的主要問(wèn)題是產(chǎn)生過(guò)多的熱量。

  研究表明,他們研制出的TFET性能可與目前的晶體管相媲美,而且能效也較以往有所提高,有望解決上述過(guò)熱問(wèn)題。

  科學(xué)家們利用電子能“隧穿”過(guò)固體研制出了這種TFET。“隧穿”在人類層面猶如魔術(shù),但在量子層面,它卻是一種非常常見的行為。

  圣母大學(xué)的電子工程學(xué)教授阿蘭·肖寶夫解釋道:“現(xiàn)今的晶體管就像一個(gè)擁有移動(dòng)門的大壩,水流動(dòng)的速度也就是電流的強(qiáng)度取決于門的高度。隧穿晶體管讓我們擁有了一類新的門,電流能夠流過(guò)而非翻過(guò)這道門,另外,我們也對(duì)門的厚度進(jìn)行了調(diào)整以便能打開和關(guān)閉電流。”

  賓州州立大學(xué)的電子工程系教授蘇曼·達(dá)塔表示:“技術(shù)進(jìn)展的關(guān)鍵在于,我們將用來(lái)建造半導(dǎo)體的材料正確地組合在一起。”

  肖寶夫補(bǔ)充道,電子隧穿設(shè)備商業(yè)化的歷史很長(zhǎng),量子力學(xué)隧穿的原理也已被用于數(shù)據(jù)存儲(chǔ)設(shè)備中,借用技術(shù),未來(lái),一個(gè)USB閃存設(shè)備或許能擁有數(shù)十億個(gè)TFET設(shè)備。

  科學(xué)家們強(qiáng)調(diào)說(shuō),隧穿晶體管的另一個(gè)好處是,使用它們?nèi)〈壳暗木w管技術(shù)并不需要對(duì)半導(dǎo)體工業(yè)進(jìn)行很大的變革,現(xiàn)有的很多電路設(shè)計(jì)和電路制造基礎(chǔ)設(shè)施都可以繼續(xù)使用。

  盡管TFET的能效與現(xiàn)有晶體管相比稍遜色,但是,去年12月賓州州立大學(xué)和今年3月圣母大學(xué)的科研團(tuán)隊(duì)發(fā)表的論文已經(jīng)表明,隧穿晶體管在驅(qū)動(dòng)電流方面已經(jīng)取得了創(chuàng)紀(jì)錄的進(jìn)步,未來(lái)有望獲得更大的進(jìn)展。

  達(dá)塔說(shuō):“如果我們?cè)谀苄先〉酶蟪晒Γ瑢⑹堑湍芎募呻娐飞系闹卮笸黄疲@反過(guò)來(lái)會(huì)加大我們研制出能自我供能設(shè)備的可能性,自我供能設(shè)備同能量捕獲設(shè)備結(jié)合在一起,有望使我們研制出更的健康檢測(cè)設(shè)備、環(huán)境智能設(shè)備以及可移植醫(yī)療設(shè)備。”
 美科學(xué)家研制出新型隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管

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