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多功能PECVD

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更新時(shí)間：2017-10-09 14:47:17瀏覽次數(shù)：270次

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北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司

經(jīng)營模式：生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品：79條

所在地區(qū)：北京北京市

聯(lián)系人：于磊（銷售部經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

團(tuán)簇式PECVD
詳詢4006-521-586，或是登錄www.wayes-vac.com了解詳情
該系列PECVD系統(tǒng)具有固態(tài)等離子源、分開式反應(yīng)氣體進(jìn)氣系統(tǒng)，動(dòng)態(tài)襯底溫控，全面控制真空系統(tǒng)，采用集中現(xiàn)場控制總線技術(shù)的“值守精靈"控制軟件，以及友好用戶操作界面來操作。適用于室溫至1400℃條件下進(jìn)行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積

詳細(xì)介紹

團(tuán)簇式PECVD
詳詢4006-521-586，或是登錄www.wayes-vac。。ｃｏｍ了解詳情
該系列PECVD系統(tǒng)具有固態(tài)等離子源、分開式反應(yīng)氣體進(jìn)氣系統(tǒng)，動(dòng)態(tài)襯底溫控，全面控制真空系統(tǒng)，采用集中現(xiàn)場控制總線技術(shù)的“值守精靈”控制軟件，以及友好用戶操作界面來操作。適用于室溫至1400℃條件下進(jìn)行的SiO2、SiNx,、 SiONx a-Si薄膜的沉積，同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積，SiC膜層沉積以及液態(tài)或氣態(tài)源沉積其它材料，尤其適合于有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無損傷鈍化膜的沉積。
清洗鍍膜一氣呵成，杜絕二次污染；上開啟結(jié)構(gòu)，式樣觀察方便；觸屏人機(jī)對(duì)話整體性操作，安全可靠；;產(chǎn)品采用全自動(dòng)控制方式，觸摸屏，數(shù)字化顯示；真空系統(tǒng)、工作壓強(qiáng)、電源系統(tǒng)及自動(dòng)匹配、工藝氣體流量、加熱系統(tǒng)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、工藝過程、系統(tǒng)監(jiān)控及數(shù)據(jù)采集等。

關(guān)鍵詞：數(shù)據(jù)采集