此款手動(dòng)磁控濺射鍍膜機(jī)具備以下幾個(gè)優(yōu)點(diǎn)：
1、目前高校包括研究所的實(shí)驗(yàn)室面積都比較緊張，所以此款小型磁控濺射鍍膜機(jī)緊湊的設(shè)計(jì)更為合適;
2、配置3個(gè)3英寸可調(diào)節(jié)高度及角度的電控?fù)醢宕趴貫R射靶(可選擇高磁靶可鍍鐵、鎳等磁性材料);
3、配置1個(gè)4英寸可旋轉(zhuǎn)、可加熱、可加裝偏壓電源的樣品臺(tái);
4、配置離子活化裝置;
5、配置內(nèi)隔板便于清理和帶擋板的觀察窗;
6、配置腔室烘烤加熱裝置;
7、配置高真空獲得及測量裝置;
8、配置膜厚實(shí)時(shí)監(jiān)控測量裝置;
9、配置3路質(zhì)量流量計(jì)充氣系統(tǒng)。
1.設(shè)備簡介
小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對實(shí)驗(yàn)室供電要求低;該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國內(nèi)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進(jìn)行配置，比較靈活;標(biāo)配2只Φ2英寸永磁靶，一臺(tái)500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級(jí)單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。
2.設(shè)備主要優(yōu)勢
2.1實(shí)用性：設(shè)備集成度高，結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實(shí)驗(yàn)室空間不足的苛刻條件;通過更換設(shè)備上下法蘭可以實(shí)現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉(zhuǎn)換，實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用;
2.2方便性：設(shè)備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調(diào)試簡單，既保證了設(shè)備使用方便又保證了設(shè)備的整潔;
2.3高性價(jià)比：設(shè)備主要零部件采用進(jìn)口或國內(nèi)品牌，以國產(chǎn)設(shè)備的價(jià)格擁有進(jìn)口設(shè)備的配置，從而保證了設(shè)備的質(zhì)量及性能;
2.4安全性：獨(dú)立開發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能，保證了設(shè)備的使用安全性能;
3.主要技術(shù)參數(shù)
3.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)，氬弧焊接;
3.2 樣品臺(tái)尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調(diào)，旋轉(zhuǎn)：0-20r/min可調(diào);
3.3 真空系統(tǒng)：機(jī)械泵(TRP-12,3L/s)+國產(chǎn)分子泵(可選進(jìn)口分子泵);GDC-25b電磁擋板閥，DN25mm 限流閥;
3.4 極限真空：8.0×10-4Pa;
3.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 60min;
3.6 真空測量：全量程復(fù)合真空計(jì)，測量范圍：105Pa～10-5Pa;
3.7 磁控靶：Φ2英寸2只(含靶擋板)，兼容直流電源和射頻電源;
3.8 濺射電源：直流和射頻可選;
3.9 質(zhì)量流量計(jì)：20sccm、50sccm質(zhì)量流量控制器各一套;
3.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能;
3.11設(shè)備外形：L60cm×W60cm×H96cm機(jī)電一體化機(jī)架，預(yù)留1個(gè)KF40法蘭接口;
3.12 設(shè)備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制(一火一零一地);
3.13 冷卻循環(huán)系統(tǒng)：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設(shè)備相關(guān)需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水
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